[發明專利]一種腔體深度漸變連續式空腔陣列在審
| 申請號： | 201710029731.2 | 申請日： | 2017-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN108332865A | 公開（公告）日： | 2018-07-27 |
| 發明（設計）人： | 李文軍;李佳琪;鄭永軍 | 申請（專利權）人： | 中國計量大學;李文軍 |
| 主分類號： | G01J5/52 | 分類號： | G01J5/52 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 空腔陣列 發射率 連續式 漸變 工作溫度區間 種腔 表面單元 紅外測溫 矩形槽 制備 長方體金屬 基底上表面 矩形槽寬度 覆蓋表面 工作表面 金屬涂層 整個空腔 參考物 可選的 內表面 法向 基底 可選 腔體 遞增 制作 加工 | ||
【權利要求書】：
1.一種腔體深度漸變連續式空腔陣列，其制備步驟包括：
制作空腔陣列的基底，在基底的上表面加工一系列寬度相等且連續均勻分布的矩形槽，槽深度按比例遞增并形成空腔陣列，對空腔陣列做表面處理。
2.根據權利要求1所述的制備步驟，其特征在于，空腔陣列的基底為金屬構件。
3.根據權利要求1所述的制備步驟，其特征在于，采用高導熱性的金屬材料。
4.根據權利要求1所述的制備步驟，其特征在于，加工采用微細電火花線切割技術。
5.根據權利要求1所述的制備步驟，其特征在于，在基底的上表面加工形成一系列寬度相等且均勻連續分布的矩形槽和矩形翅，矩形槽的深度成比例遞增。
6.根據權利要求1所述的制備步驟，其特征在于，對空腔陣列做表面處理，用金屬涂層覆蓋表面包括矩形槽內表面。
7.根據權利要求1所述的制備步驟，其特征在于，所述金屬涂層選擇Cr。
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