[發明專利]用于制備響應紫外可見光的光敏電阻的光敏材料

在審

• 申請號: 201710028719.X
• 申請日: 2017-01-16
• 公開（公告）號: CN106847995A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 翟靜;楊興強;秦佳瓊;張新剛;瞿春;梁娜
• 申請（專利權）人: 南陽師范學院
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L31/0296;H01L31/0352;H01L31/09
• 代理公司: 北京中恒高博知識產權代理有限公司11249
• 代理人: 宋敏

1.用于制備響應紫外可見光的光敏電阻的光敏材料，其特征在于，所述光敏材料由紫外可見光響應光敏溶液噴涂在光敏電阻的陶瓷基體的表面形成，所述紫外可見光響應光敏溶液包括混合物和離子水，所述混合物由以下重量百分比的各組分組成：

CdSeS 35%-55%，CdSe 25%-45%，CdS 9%-29%，余量為稀土硝酸鹽；

將混合物溶解在離子水中得到紫外可見光響應光敏溶液，所述紫外可見光響應光敏溶液中混合物與離子水的質量百分比為，混合物25%-45%，離子水55%-75%。

2.根據權利要求1所述的制備響應紫外可見光的光敏電阻的光敏材料，其特征在于，所述稀土硝酸鹽為硝酸鑭、硝酸鈰、硝酸鐠、硝酸釹、硝酸钷、硝酸釤或硝酸銪中的任一種。

3.根據權利要求2所述的用于制備響應紫外可見光的光敏電阻的光敏材料，其特征在于，所述混合物各組分的重量百分比CdSeS 45%，CdSe 35%，CdS 19%，稀土硝酸鹽1%；

所述紫外可見光響應光敏溶液中混合物與離子水的質量百分比為，混合物35%，離子水65%。

4.響應紫外可見光的光敏電阻的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：制備陶瓷基體；

步驟2：配置紫外可見光響應光敏溶液；

步驟3：將紫外可見光響應光敏溶液噴涂在陶瓷基體的表面，形成紫外可見光響應光敏材料層；

步驟4：將步驟3噴涂后的陶瓷基體靜置10-30分鐘后，放入500℃-700℃恒溫烘箱中烘烤10-30分鐘；

步驟5：將兩個電極安裝在步驟4形成的紫外可見光響應光敏材料層兩端，得到紫外可見光響應光敏電阻主體；

步驟6：在紫外可見光響應光敏電阻主體表面噴涂隔離層，得到紫外可見光響應光敏電阻主體。

5.根據權利要求4所述的響應紫外可見光的光敏電阻的制備方法，其特征在于，步驟2中，紫外可見光響應光敏溶液包括混合物和離子水，所述混合物由以下重量百分比的各組分組成：

CdSeS 35%-55%，CdSe 25%-45%，CdS 9%-29%，余量為稀土硝酸鹽；

將混合物溶解在離子水中得到紫外可見光響應光敏溶液，所述紫外可見光響應光敏溶液中混合物與離子水的質量百分比為，混合物25%-45%，離子水55%-75%。

6.根據權利要求4所述的響應紫外可見光的光敏電阻的制備方法，其特征在于，所述步驟4具體為，將步驟3噴涂后的陶瓷基體靜置20分鐘后，放入600℃恒溫烘箱中烘烤20分鐘。

7.根據權利要求4所述的響應紫外可見光的光敏電阻的制備方法，其特征在于，所述陶瓷基體由純度為90%以上的三氧化二鋁材料制成。

8.根據權利要求4所述的響應紫外可見光的光敏電阻的制備方法，其特征在于，步驟3具體為，將步驟S2紫外可見光響應光敏材料溶液噴涂在陶瓷基體表面，噴涂5次，所述低成本紫外可見光響應光敏材料層厚度為6微米。

9.根據權利要求4所述的響應紫外可見光的光敏電阻的制備方法，其特征在于，步驟6具體為，利用環氧樹脂在低成本紫外可見光響應光敏電阻主體表面，形成隔離層，所述隔離層厚度為4微米。

10.根據權利要求5所述的響應紫外可見光的光敏電阻的制備方法，其特征在于, 所述混合物各組分的重量百分比CdSeS 45%，CdSe 35%，CdS 19%，稀土硝酸鹽1%；

所述紫外可見光響應光敏溶液中混合物與離子水的質量百分比為，混合物35%，離子水65%。