[發(fā)明專利]用于制備高靈敏度響應(yīng)紫外可見光的光敏電阻的光敏材料在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710028591.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106847953A | 公開(公告)日: | 2017-06-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王銀花;李寶磊;徐秀梅;張新剛;李曉藝;柳海林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南陽(yáng)師范學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0296 | 分類號(hào): | H01L31/0296;H01L31/18;H01L31/09 |
| 代理公司: | 北京中恒高博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11249 | 代理人: | 宋敏 |
| 地址: | 473061 河南*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 制備 靈敏度 響應(yīng) 紫外 可見光 光敏 電阻 材料 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光敏電阻技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及用于制備高靈敏度響應(yīng)紫外可見光的光敏電阻的光敏材料。
背景技術(shù)
能夠?qū)梢姽夂徒贤夤忭憫?yīng)的紫外可見光響應(yīng)光敏電阻廣泛應(yīng)用于光電檢測(cè)控制系統(tǒng),如紫外線探測(cè)器,成像型紫外告警和紫外制導(dǎo)等。目前,紫外可見光光敏電阻通常由附在陶瓷基體表面的光敏材料層電聯(lián)兩個(gè)電極組成,光敏電阻材料對(duì)紫外可見光光敏電阻的性能起決定性作用?,F(xiàn)有紫外可見光響應(yīng)光敏電阻材料多通過在對(duì)可見光敏感的CdS、CdSe混合物中摻入三元CdSeS量子點(diǎn),利用三元CdSeS量子點(diǎn)的量子限域效應(yīng)產(chǎn)生光譜藍(lán)移,把光譜響應(yīng)譜帶擴(kuò)展到近紫外光光譜。但是,現(xiàn)有紫外可見光光敏電阻材料主要存在的問題是:靈敏度低,難以滿足現(xiàn)代光電檢測(cè)控制系統(tǒng)對(duì)紫外可見光光敏電阻高靈敏度的要求。國(guó)內(nèi)外主要通過添加CuCl2材料來(lái)提高紫外可見光光敏電阻的靈敏度。雖然CuCl2材料利用Cu離子有效的提高了電子遷移率,進(jìn)而一定程度提高了紫外可見光光敏電阻的靈敏度,但引入游離態(tài)Cl離子難以消除,對(duì)紫外可見光光敏電阻的靈敏度造成負(fù)面影響,成為進(jìn)一步提高紫外可見光光敏電阻靈敏度的難題。因此需要提供一種靈敏度更高的紫外可見光光敏電阻,以滿足光電檢測(cè)控制系統(tǒng)對(duì)紫外可見光光敏電阻靈敏度的更高要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,針對(duì)上述問題,提出用于制備高靈敏度響應(yīng)紫外可見光的光敏電阻的光敏材料及該光敏電阻制備方法,以進(jìn)一步提高紫外可見光光敏電阻靈敏度。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:高靈敏度響應(yīng)紫外可見光的光敏電阻的光敏材料,所述光敏材料由高靈敏度紫外可見光光敏溶液噴涂在光敏電阻的陶瓷基體的表面形成,所高靈敏度紫外可見光光敏溶液包括混合物和離子水,所述混合物由以下重量百分比的各組分組成:
CdSeS 32%-52%,CdSe 20%-40%,CdS 17%-37%,余量為稀土硝酸鹽;
將混合物溶解在離子水中得到高靈敏度紫外可見光光敏溶液,所述高靈敏度紫外可見光光敏溶液中混合物與離子水的質(zhì)量百分比為,混合物25%-45%,離子水55%-75%。
進(jìn)一步地,所述稀土硝酸鹽為硝酸鋱、硝酸鏑、硝酸鈥、硝酸鉺、硝酸銩、硝酸鐿和硝酸镥中的任一種。
進(jìn)一步地,
所述混合物各組分的重量百分比CdSeS 42%,CdSe 30%,CdS 27%,稀土硝酸鹽1%;
所述高靈敏度紫外可見光光敏溶液中混合物與離子水的質(zhì)量百分比為,混合物35%,離子水65%。
高靈敏度響應(yīng)紫外可見光的光敏電阻的制備方法,包括以下步驟:
步驟1:制備陶瓷基體;
步驟2:配置高靈敏度紫外可見光光敏溶液;
步驟3:將高靈敏度紫外可見光光敏溶液噴涂在陶瓷基體的表面,形成高靈敏度紫外可見光光敏材料層;
步驟4:將步驟3噴涂后的陶瓷基體靜置10-30分鐘后,放入500℃-700℃恒溫烘箱中烘烤10-30分鐘;
步驟5:將兩個(gè)電極安裝在步驟4形成的高靈敏度紫外可見光響應(yīng)光敏材料層兩端,得到高靈敏度紫外可見光光敏電阻主體;
步驟6:在高靈敏度紫外可見光光敏電阻主體表面噴涂隔離層,得到高靈敏度紫外可見光光敏電阻主體。
進(jìn)一步地,步驟2中,
紫外可見光響應(yīng)光敏溶液包括混合物和離子水,所述混合物由以下重量百分比的各組分組成:
CdSeS 32%-52%,CdSe 20%-40%,CdS 17%-37%,余量為稀土硝酸鹽;
將混合物溶解在離子水中得到高靈敏度紫外可見光光敏溶液,所述高靈敏度紫外可見光光敏溶液中混合物與離子水的質(zhì)量百分比為,混合物25%-45%,離子水55%-75%。
進(jìn)一步地,所述步驟4具體為,將步驟3噴涂后的陶瓷基體靜置20分鐘后,放入600℃恒溫烘箱中烘烤20分鐘。
進(jìn)一步地,所述陶瓷基體由純度為90%以上的三氧化二鋁材料制成。
進(jìn)一步地,步驟3具體為,將步驟S2高靈敏度紫外可見光光敏溶液噴涂在陶瓷基體表面,噴涂5次,所述高靈敏度紫外可見光光敏材料層厚度為4微米。
進(jìn)一步地,步驟6具體為,利用環(huán)氧樹脂在高靈敏度紫外可見光光敏電阻主體表面,形成隔離層,所述隔離層厚度為5微米。
進(jìn)一步地,所述混合物各組分的重量百分比CdSeS 42%,CdSe 30%,CdS 27%,稀土硝酸鹽1%;
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 時(shí)刻響應(yīng)
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