[發明專利]一種高阻隔性光學薄膜及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201710025909.6
• 申請日: 2017-01-13
• 公開（公告）號: CN106893127B
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 徐瑞璋;向愛雙;丁玲;張磊
• 申請（專利權）人: 武漢保麗量彩科技有限公司
• 主分類號: C08J7/048
• 分類號: C08J7/048;C09D129/04;C09D123/06;C09D169/00;C09D133/12;C09D125/06;C08L67/02;C08L69/00
• 代理公司: 北京輕創知識產權代理有限公司 11212
• 代理人: 陳衛

1.一種高阻隔性光學薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1.將PVA水溶液、戊二醛水溶液和鹽酸混合配制成疏水改性的PVA阻隔液，備用；將PE、PC、PMMA和PS中的任一種溶于有機溶劑配制成隔水阻隔液，備用；

S2.將所述疏水改性的PVA阻隔液涂布于由光學PET膜或光學PC膜制成的光學基膜的上表面，烘干，在所述光學基膜的上表面形成氧氣阻隔膜，得光學基膜與氧氣阻隔膜的復合膜；

S3.將所述隔水阻隔液涂布于所述氧氣阻隔膜的上表面，干燥，在所述氧氣阻隔膜的上表面形成水汽阻隔膜，得由光學基膜、氧氣阻隔膜和水汽阻隔膜復合而成的高阻隔性光學薄膜。

2.根據權利要求1所述的一種高阻隔性光學薄膜的制備方法，其特征在于，S1中所述PVA水溶液中PVA的質量分數為3-25％，所述戊二醛水溶液中戊二醛的質量分數為8-12％，所述鹽酸的質量分數為2-6％，所述疏水改性的PVA阻隔液由所述PVA水溶液、戊二醛水溶液和鹽酸按照100:0.1-10:0.2-2的重量比例充分混合并反應0.5-1h制成。

3.根據權利要求1至2任一項所述的一種高阻隔性光學薄膜的制備方法，其特征在于，S1中所述隔水阻隔液中相應的PE、PC、PMMA或PS的質量分數為3-25％，所述有機溶劑為二氯甲烷或二甲苯。

4.一種如權利要求1至3任一項所述的一種高阻隔性光學薄膜的應用，其特征在于，用作量子點膜的外層阻隔膜或用作要求阻隔外界氧氣和水汽的食品包裝膜。