[發明專利]振膜及其制備方法以及使用該振膜的電聲器件在審
| 申請號： | 201710022869.X | 申請日： | 2017-01-12 |
| 公開（公告）號： | CN106851499A | 公開（公告）日： | 2017-06-13 |
| 發明（設計）人： | 任圣;張帆 | 申請（專利權）人： | 瑞聲科技（新加坡）有限公司 |
| 主分類號： | H04R9/06 | 分類號： | H04R9/06;H04R9/02;H04R7/04 |
| 代理公司： | 長沙市阿凡提知識產權代理有限公司43216 | 代理人： | 許立舉,曹俊 |
| 地址： | 新加坡宏茂橋*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 及其 制備 方法 以及 使用 電聲 器件 | ||
【權利要求書】：
1.一種振膜，其特征在于，包括中間部和環繞所述中間部設置的折環部，所述中間部上沉積金屬材料層。
2.根據權利要求1所述的振膜，其特征在于，所述中間部為平板狀結構，所述金屬材料層沉積在所述中間部的上表面。
3.根據權利要求2所述的振膜，其特征在于，所述振膜包括自折環遠離中間部一側延伸的固定部。
4.根據權利要求3所述的振膜，其特征在于，所述中間部、折環部和固定部一體成型。
5.一種振膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
(a)、提供振膜，包括中間部和環繞中間部的折環部；
(b)、在中間部表面沉積金屬材料，形成金屬材料層。
6.根據權利要求5所述的振膜的制備方法，其特征在于，所述沉積方法為氣相沉積。
7.根據權利要求5所述的振膜的制備方法，其特征在于，所述沉積方法為磁控濺射法或蒸鍍法中的任意一種。
8.一種電聲器件，其特征在于，其包括如權利要求1到4任意一項所述的振膜。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于瑞聲科技（新加坡）有限公司，未經瑞聲科技（新加坡）有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710022869.X/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
