[發明專利]一種利用調制高功率脈沖磁控濺射制備AlTiN硬質涂層的方法在審
| 申請號： | 201710020783.3 | 申請日： | 2017-01-12 |
| 公開（公告）號： | CN106868450A | 公開（公告）日： | 2017-06-20 |
| 發明（設計）人： | 周暉;鄭軍;王啟民;貴賓華;張延帥;楊拉毛草;桑瑞鵬;趙棟才 | 申請（專利權）人： | 蘭州空間技術物理研究所 |
| 主分類號： | C23C14/06 | 分類號： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中恒高博知識產權代理有限公司11249 | 代理人： | 鐘國 |
| 地址： | 730000 甘*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 調制 功率 脈沖 磁控濺射 制備 altin 硬質 涂層 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用調制高功率脈沖磁控濺射制備AlTiN硬質涂層的方法，包括抽真空、基體除氣、基體清洗和在基體上濺射沉積AlTiN硬質涂層，其特征在于，在基體上濺射AlTiN硬質涂層的工藝參數如下：
調制高功率脈沖電源的放電電壓300～600 V，頻率100～300Hz，峰值電流100～300 A，峰值電壓400～800V；
靶材的成分為：Al 60～70 at.%，余量為Ti；
氮氣流量為100～300sccm；
基體負偏壓：50～200V。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，濺射沉積時間為60～180分鐘。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，將真空度抽至1×10-3～8×10-3Pa后，再將基體加熱至300～500℃進行除氣，直至真空度達到1×10-3～8×10-3Pa。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，完成除氣后，在真空度為0.5～1Pa下利用等離子體源對基體進行清洗。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，等離子體源功率為5～10 kW，清洗時間10～30分鐘。
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