[發明專利]增材沉積系統和方法有效
| 申請號： | 201710020713.8 | 申請日： | 2017-01-11 |
| 公開（公告）號： | CN106985378B | 公開（公告）日： | 2022-03-01 |
| 發明（設計）人： | D·M·約翰遜;V·A·貝克;S·A·埃爾羅德;D·K·比格爾森 | 申請（專利權）人： | 帕洛阿爾托研究中心公司 |
| 主分類號： | B29C64/112 | 分類號： | B29C64/112;B29C64/194;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李湘;鄭冀之 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 系統 方法 | ||
1.一種增材沉積系統，包括：
氣溶膠生成設備，所述氣溶膠生成設備構造成生成增材材料的氣溶膠；
氣溶膠充電設備，所述氣溶膠充電設備構造成將所生成的增材材料的氣溶膠靜電充電至第一極性；
薄層充電設備，所述薄層充電設備構造成在基材層表面上感應均勻的薄層靜電電荷；
選擇性充電設備，所述選擇性充電設備構造成選擇性地改變其上被感應均勻的薄層靜電電荷的基材層表面的靜電電荷；以及
所充電的增材材料的氣溶膠由于所充電的增材材料的氣溶膠與所述基材之間的靜電勢而通過靜電力選擇性地沉積到電荷改變的基材上。
2.根據權利要求1所述的增材沉積系統，其中，所述氣溶膠生成設備是長絲延伸霧化器。
3.根據權利要求1所述的增材沉積系統，其中，所述增材材料是聚合物。
4.根據權利要求1所述的增材沉積系統，其中，所述選擇性充電設備基于輸入選擇性地改變所述基材層表面的靜電電荷。
5.根據權利要求1所述的增材沉積系統，其中，選擇性地改變所述基材層表面的靜電電荷包括改變極性或靜電荷密度中的至少一者。
6.根據權利要求1所述的增材沉積系統，還包括基材充電設備，所述基材充電設備構造成利用具有第二極性的靜電電荷均勻地靜電充電所述基材層表面。
7.根據權利要求6所述的增材沉積系統，其中，所述第一極性和所述第二極性基本相同，所述選擇性充電設備將所述基材表面層的靜電電荷選擇性地改變成與所述第一極性和所述第二極性相反的極性以及基本中性狀態中的至少一者。
8.根據權利要求6所述的增材沉積系統，其中，所述第一極性和所述第二極性基本相反，所述選擇性充電設備將所述基材表面層的靜電電荷選擇性地改變成與所述第一極性相似的極性和基本中性狀態中的至少一者。
9.根據權利要求1所述的增材沉積系統，還包括氣溶膠沉積通路，所述氣溶膠沉積通路鄰近所述基材定位并且構造成越過布置在所述沉積通路上的開口，平行于所述基材引導所述充電氣溶膠，所述充電氣溶膠的至少一部分被引導接近所述開口并且通過靜電力沉積到所述基材表面層上。
10.一種增材沉積系統，包括：
長絲延伸霧化器，所述長絲延伸霧化器構造成生成聚合物的氣溶膠；
氣溶膠充電設備，所述氣溶膠充電設備構造成將霧化的聚合物靜電充電至第一極性；
薄層充電設備，所述薄層充電設備構造成在基材層表面上感應均勻的薄層靜電電荷；
離子沉積裝置，所述離子沉積裝置構造成選擇性地改變其上被感應均勻的薄層靜電電荷的所述基材層表面的靜電電荷；以及
所充電的霧化聚合物由于所充電的增材材料的氣溶膠與所述基材之間的靜電勢而通過靜電力選擇性地沉積到電荷改變的基材上。
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