[發明專利]自灌溉景觀花盆

在審

• 申請號: 201710019446.2
• 申請日: 2017-01-12
• 公開（公告）號: CN106818278A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 朱勇;吳蓮珍
• 申請（專利權）人: 浙江國盛園林工程有限公司
• 主分類號: A01G9/02
• 分類號: A01G9/02;A01G27/02
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司11508
• 代理人: 倪志華

1.一種自灌溉景觀花盆，包括安裝塊(1)，所述安裝塊(1)一端凹陷形成圓柱狀凹槽(4)，所述安裝塊(1)內設置有用于儲水的蓄水腔(2)，其特征是：所述凹槽(4)的槽底設置有連通凹槽(4)和蓄水腔(2)的多個連通孔(5)，所述凹槽(4)中設置有用于種植花草且與凹槽(4)的側壁抵接的盆體(13)，所述盆體(13)的外側壁設置有第一磁塊(17)，所述凹槽(4)的側壁設置有與第一磁塊(17)產生磁性吸合的第二磁塊(12)，所述盆體(13)的側壁設置有第一進水孔(15)，所述凹槽(4)的側壁設置有連通凹槽(4)和蓄水腔(2)的第二進水孔(7)，當第一進水孔(15)和第二進水孔(7)對齊時，水經過第二進水孔(7)和第一進水孔(15)進入盆體(13)。

2.根據權利要求1所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述第一進水孔(15)和第二進水孔(7)孔徑相等。

3.根據權利要求1所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述盆體(13)的外側壁設置有限位槽(16)，所述凹槽(4)的側壁設置有安裝槽(8)，所述安裝槽(8)的槽底連接有彈簧(9)，所述彈簧(9)遠離凹槽(4)的槽底的一端連接有限位塊(10)，所述限位塊(10)設置有背離凹槽(4)的槽底的引導面，當第一進水孔(15)和第二進水孔(7)對齊時，限位塊(10)沿著安裝槽(8)移動至部分卡入安裝槽(8)且引導面抵接于限位槽(16)的槽口。

4.根據權利要求3所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述限位槽(16)貫穿盆體(13)，所述限位槽(16)比第一進水孔(15)更遠離盆體(13)的底部。

5.根據權利要求1所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述盆體(13)的內側壁在第一進水孔(15)的下方設置有導流片(18)，所述導流片(18)從盆體(13)的內側壁向盆體(13)中心處延伸。

6.根據權利要求5所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述導流片(18)呈螺旋式分布在盆體(13)的內側壁，所述導流片(18)從靠近盆體(13)的內側壁一端至遠離盆體(13)的內側壁的一端向盆體(13)的底部傾斜。

7.根據權利要求5所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述導流片(18)設置有多塊，多塊所述導流片(18)分多層設置，相鄰兩層的所述導流片(18)交錯分布，每層所述導流片(18)設置有多塊，每層所述導流片(18)沿著盆體(13)的圓周等間距分布。

8.根據權利要求7所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述盆體(13)的內側壁設置有多個環形卡槽(21)，每層所述導流片(18)過盈安裝在對應的環形卡槽(21)中。

9.根據權利要求6或7或8所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述盆體(13)的底部向盆體(13)的口部凹陷形成定位槽(14)，所述盆體(13)在導流片(18)的下方設置有托盤(19)，所述托盤(19)朝向盆體(13)的底部一側設置有環形凸塊(20)，所述定位槽(14)的底部位于盆體(13)內的一側卡入環形凸塊(20)中。

10.根據權利要求9所述的自灌溉景觀花盆，其特征是：所述凹槽(4)的槽底中心處設置有定位桿(6)，所述定位桿(6)卡入定位槽(14)中且與定位槽(14)的側壁抵接，所述定位桿(6)呈棱柱狀。