[發明專利]高空間分辨率磁場檢測裝置及方法有效
| 申請號: | 201710017847.4 | 申請日: | 2017-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN106707202B | 公開(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發明(設計)人: | 高秀敏;曾祥堉;苗玉;詹秋芳;張榮福 | 申請(專利權)人: | 上海理工大學 |
| 主分類號: | G01R33/02 | 分類號: | G01R33/02 |
| 代理公司: | 上海申匯專利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吳寶根;王晶 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 空間 分辨率 磁場 檢測 裝置 方法 | ||
1.一種高空間分辨率磁場檢測方法,采用高空間分辨率磁場檢測裝置,該裝置包括原子氣體室(1)、偏振非均勻分布矢量光束光源(2)、光束偏轉掃描器(3)、探測光源(4)、光電探測器(6)、處理分析單元(7),所述原子氣體室(1)的底層(102)和頂層(101)設置反射膜,頂層(101)上方設有光電探測器(6),光電探測器(6)連接處理分析單元(7),所述原子氣體室(1)一側外設有偏振非均勻分布矢量光束光源(2)、光束偏轉掃描器(3),探測光源(4),其特征在于,其步驟為:1)偏振非均勻分布矢量光束光源(2)出射的偏振非均勻分布矢量光束經過光束偏轉掃描器(3)光束傳播方向發生改變,從原子氣體室(1)側面入射實現多次反射動態原子蒸氣泵浦;2)探測光源(4)出射探測光束從原子氣體室(1)側面入射,在原子氣體室(1)的底層(102)和頂層(101)發生多次反射,有部分探測光透射出頂層(101)發生透射形成探測光束陣列(5);3)原子氣體室(1)的頂層(101)透射的探測光束陣列(5)經過偏振分光鏡陣列的分光后,被光電探測器(6)接收,光電探測器(6)將陣列信號傳給信息處理分析單元(7)進行分析;4)光束偏轉掃描器(3)實現偏振非均勻分布矢量光束泵浦路線掃描,重復步驟3),信息處理分析單元(7)對數據分析空間差異性的光電分布信息,實現高空間分辨率磁場檢測。
2.根據權利要求1所述的高空間分辨率磁場檢測方法,其特征在于:所述原子氣體室(1)采用長方體透明結構,在原子氣體室(1)的底層(102)和頂層(103)設置的反射膜對偏振非均勻分布矢量光束光源(2)出射的偏振非均勻分布矢量光束反射率為97%;原子氣體室(1)內測的底層(102)設置的反射膜對探測光源出射探測光束的反射率為97%,原子氣體室(1)內測的頂層(101)設置的反射膜對探測光源出射探測光束的反射率值為80%-95%之間;在原子氣體室(1)內測的側壁設置有增透膜。
3.根據權利要求1所述的高空間分辨率磁場檢測方法,其特征在于:所述偏振非均勻分布矢量光源(2)出射光路上設置有光束偏轉掃描器(3),光束偏轉掃描器(3)為光譜分光鏡振鏡,對偏振非均勻分布矢量光源(2)出射光束的反射率為99%,對探測光源出射探測光束的透射率為99%。
4.根據權利要求1所述的高空間分辨率磁場檢測方法,其特征在于:所述的偏振非均勻分布矢量光源(2)為徑向偏振圓偏振復合激光光源或方位角偏振圓偏振復合激光光源。
5.根據權利要求1所述的高空間分辨率磁場檢測方法,其特征在于:所述的光電探測器(6)為二維光電探測器,二維光電探測器為電荷耦合器件或互補金屬氧化物半導體電傳感器。
6.根據權利要求1所述的高空間分辨率磁場檢測方法,其特征在于:所述的原子氣體室(1)為堿金屬原子氣體室。
7.根據權利要求1所述的高空間分辨率磁場檢測方法,其特征在于:所述步驟2)的具體方法為:探測光源(4)出射探測光束從原子氣體室(1)側面入射,在入射在原子氣體室(1)側面之前,光路經過光束偏轉掃描器(2)的光譜分光鏡振鏡的光譜分光鏡光學作用面上;在光譜分光鏡光學作用面上,偏振非均勻分布矢量光束和探測光束的入射點重疊;探測光束在原子氣體室(1)的底層(102)和頂層(101)發生多次反射,每次經過原子氣體室(1)的頂層(101)反射時,有部分探測光發生透射。
8.根據權利要求1所述的高空間分辨率磁場檢測方法,其特征在于:所述步驟3)的具體方法為:原子氣體室(1)的頂層(101)透射的探測光束陣列經過偏振分光鏡陣列(5)的分光后,偏振分光鏡陣列(5)為等間距設立偏振分光鏡,間距與室探測光束在原子氣體頂層發生透射的透射點間距一致,每個透射點透射光束被相對應的一片偏振分光鏡分光,在偏振分光鏡陣列(5)的每個偏振分光鏡兩側形成光束;偏振分光后的所有光束被光電探測器(6)接收,光電探測器(6)將陣列信號傳給信息處理分析單元(7)進行分析。
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