[發(fā)明專利]平坦化共用載體框架上的多個(gè)陰影掩模的設(shè)備和方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710012937.4
• 申請(qǐng)日: 2017-01-09
• 公開（公告）號(hào): CN107022737A
• 公開（公告）日: 2017-08-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 布萊恩·阿瑟·布奇;戴維·N·蒙托;童圣智
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 阿德文泰克全球有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 顧紅霞,龍濤峰

1.一種多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，包括：

載體，其包括第一側(cè)和第二側(cè)以及從所述第一側(cè)到所述第二側(cè)延伸貫通所述載體的多個(gè)孔口，其中，每個(gè)孔口與包括對(duì)準(zhǔn)特征的組合的框架和陰影掩模相關(guān)聯(lián)，其中，所述陰影掩模經(jīng)由所述框架被支撐在所述載體的所述第一側(cè)上，并且所述陰影掩模與所述孔口對(duì)準(zhǔn)；

對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其位于所述載體的所述第二側(cè)上；

控制器，其能操作地控制所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，以單獨(dú)地對(duì)準(zhǔn)每個(gè)組合的框架和陰影掩模，使得所述組合的框架和陰影掩模的所述對(duì)準(zhǔn)特征與關(guān)聯(lián)于所述組合的框架和陰影掩模的參考對(duì)準(zhǔn)特征對(duì)準(zhǔn)，而不是與所述載體或所述組合的框架和陰影掩模的一部分對(duì)準(zhǔn)；以及

間隔件，其位于所述載體上，并且構(gòu)造成將每個(gè)組合的框架和陰影掩模支撐在所述載體的所述第一側(cè)的表面的上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中，所述間隔件構(gòu)造成將每個(gè)組合的框架和陰影掩模平坦化。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中，所述間隔件構(gòu)造成將全部所述組合的框架和陰影掩模相對(duì)于彼此平坦化。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中：

所述間隔件包括穿過所述載體中的開口伸出的調(diào)平銷；并且

所述調(diào)平銷固定在所述載體的所述開口中。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中，所述調(diào)平銷經(jīng)由粘合或壓配合而固定在所述載體的所述開口中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，還包括能操作地獲取包括所述對(duì)準(zhǔn)特征的圖像的至少一個(gè)照相機(jī)，其中，所述控制器能操作地基于所獲取的圖像控制所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中：

所述參考對(duì)準(zhǔn)特征包括存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的參考坐標(biāo)；并且

所述控制器控制所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，以將所獲取的圖像中的所述對(duì)準(zhǔn)特征與所述參考坐標(biāo)對(duì)準(zhǔn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，還包括對(duì)準(zhǔn)基板，所述對(duì)準(zhǔn)基板包括所述參考對(duì)準(zhǔn)特征且位于所述至少一個(gè)照相機(jī)與所述組合的框架和陰影掩模之間，其中，所獲取的圖像還包括所述參考對(duì)準(zhǔn)特征。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，還包括：

對(duì)準(zhǔn)基板，其包括所述參考對(duì)準(zhǔn)特征，定位到所述組合的框架和陰影掩模的與所述載體相反的一側(cè)，其中，所述對(duì)準(zhǔn)特征和所述參考對(duì)準(zhǔn)特征分別包括第一多個(gè)孔和第二多個(gè)孔；并且

所述控制器能操作地控制所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，以單獨(dú)地對(duì)準(zhǔn)每個(gè)組合的框架和陰影掩模，直至預(yù)定量的光穿過所述組合的框架和陰影掩模的所述第一多個(gè)孔以及與所述組合的框架和陰影掩模相關(guān)聯(lián)且與所述組合的框架和陰影掩模的所述第一多個(gè)孔對(duì)準(zhǔn)的所述第二多個(gè)孔。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中：

所述第一多個(gè)孔中的與所述第二多個(gè)孔中的相應(yīng)一個(gè)孔對(duì)準(zhǔn)的每個(gè)孔沿著光路定位；

每個(gè)光路包括光接收器；并且

所述控制器根據(jù)所述光接收器的輸出來判定預(yù)定量的光何時(shí)穿過所述第一多個(gè)孔以及與所述第一多個(gè)孔對(duì)準(zhǔn)的所述第二多個(gè)孔。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中，每個(gè)光路還包括光源。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中：

所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)包括對(duì)準(zhǔn)臺(tái)，所述對(duì)準(zhǔn)臺(tái)能操作地使至少一個(gè)組合的框架和陰影掩模從與所述載體接觸的位置移動(dòng)到與所述載體間隔開的位置，反之亦然，并且所述對(duì)準(zhǔn)臺(tái)能操作地沿X、Y和θ方向中的兩個(gè)或更多個(gè)方向調(diào)節(jié)所述組合的框架和陰影掩模；

X方向和Y方向平行于所述載體的所述第一側(cè)；并且

所述θ方向是圍繞作為所述載體的所述第一側(cè)的法線的Z方向旋轉(zhuǎn)的方向。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中：

所述對(duì)準(zhǔn)臺(tái)包括延伸穿過所述載體中的孔的多個(gè)銷；

當(dāng)所述銷伸出時(shí)，所述銷將所述組合的框架和陰影掩模定位成與所述載體間隔開；并且

當(dāng)所述銷縮回時(shí)，所述組合的框架和陰影掩模與所述間隔件接觸。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中，所述控制器能操作地控制所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，以同時(shí)對(duì)準(zhǔn)每個(gè)組合的框架和陰影掩模。