[發(fā)明專利]測量儀及測量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710011277.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108278977B | 公開(公告)日: | 2020-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 談順毅;邱家鋮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海慧希電子科技有限公司;邱家鋮 |
| 主分類號(hào): | G01B11/24 | 分類號(hào): | G01B11/24 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 駱希聰 |
| 地址: | 200433 上海市楊浦區(qū)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測量儀 測量方法 | ||
1.一種測量儀,包括光發(fā)生模塊、光信號(hào)接收模塊和光路系統(tǒng),其特征在于,還包括:控制模塊和空間光調(diào)制模塊;
所述光發(fā)生模塊產(chǎn)生入射光束并將所述入射光束輸入所述光路系統(tǒng);
所述光路系統(tǒng)將所述入射光束傳輸至所述空間光調(diào)制模塊和待測物體;
所述空間光調(diào)制器接收來自所述控制模塊的第一調(diào)制信號(hào),和所述入射光束,產(chǎn)生第一調(diào)制光束,并將所述第一調(diào)制光束輸入所述光路系統(tǒng);
所述光路系統(tǒng)接收所述第一調(diào)制光束和返回自所述待測物體的參考光束,并傳輸至所述光信號(hào)接收模塊;
所述光信號(hào)接收模塊接收所述第一調(diào)制光束和所述參考光束,生成測量數(shù)據(jù)并傳輸至所述控制模塊;
所述控制模塊根據(jù)所述測量數(shù)據(jù),生成第二調(diào)制信號(hào),并將所述第二調(diào)制信號(hào)作為新的第一調(diào)制信號(hào),并再次接收所述測量數(shù)據(jù);
其中,所述控制模塊中還儲(chǔ)存有至少一個(gè)吻合信號(hào),所述控制模塊將所述測量數(shù)據(jù)與所述吻合信號(hào)比較;
當(dāng)所述測量數(shù)據(jù)與所述吻合信號(hào)不匹配時(shí),產(chǎn)生第二調(diào)制光束并將所述第二調(diào)制信號(hào)作為新的第一調(diào)制信號(hào),并再次接收所述測量數(shù)據(jù);
當(dāng)所述測量數(shù)據(jù)與所述吻合信號(hào)匹配時(shí),所述控制模塊不生成第二調(diào)制信號(hào)。
2.如權(quán)利要求1所述的測量儀,其特征在于:所述光路系統(tǒng)包括光學(xué)系統(tǒng)包含第一透鏡子系統(tǒng)、第二透鏡子系統(tǒng)和合路子系統(tǒng);
其中合路子系統(tǒng)將所述入射光束傳輸至所述空間光調(diào)制模塊和所述待測物體,并將第一調(diào)制光束和參考光束傳輸至所述光信號(hào)接收模塊;
所述第一透鏡子系統(tǒng)根據(jù)所述空間光調(diào)制器的尺寸匹配所述合路子系統(tǒng)傳輸至空間光調(diào)制模塊的入射光束;
所述第二透鏡子系統(tǒng)根據(jù)所述光信號(hào)接收模塊的尺寸匹配所述第一調(diào)制光束和參考光束。
3.如權(quán)利要求1所述的測量儀,其特征在于:所述控制模塊接收并處理所述測量數(shù)據(jù),并根據(jù)所述處理后的測量數(shù)據(jù)計(jì)算出修正信息;
所述控制模塊根據(jù)所述修正信息和所述第一調(diào)制信號(hào)產(chǎn)生第二調(diào)制信號(hào)。
4.如權(quán)利要求3所述的測量儀,其特征在于:所述控制模塊對(duì)所述數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理,預(yù)處理包括對(duì)所述數(shù)據(jù)進(jìn)行數(shù)學(xué)變換;
所述數(shù)學(xué)變換包括濾除所述數(shù)據(jù)中的特定頻域信息。
5.如權(quán)利要求3所述的測量儀,其特征在于:所述控制模塊中儲(chǔ)存有多個(gè)預(yù)設(shè)數(shù)據(jù)模式,所述控制模塊判斷所述處理后的所述測量數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)數(shù)據(jù)模式;
根據(jù)所述預(yù)設(shè)數(shù)據(jù)模式生成所述處理后的所述測量數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的參數(shù),并根據(jù)所述參數(shù)產(chǎn)生修正信息。
6.如權(quán)利要求1所述的測量儀,其特征在于:所述控制模塊中還包括一個(gè)迭代次數(shù)存儲(chǔ)器,和一個(gè)迭代上限,所述控制模塊接收到所述測量數(shù)據(jù)時(shí),將所述迭代次數(shù)與所述迭代上限比較,
當(dāng)所述迭代次數(shù)小于所述迭代上限時(shí),所述控制模塊根據(jù)所述測量數(shù)據(jù),生成第二調(diào)制信號(hào),將所述第二調(diào)制信號(hào)作為新的第一調(diào)制信號(hào),再次接收所述測量數(shù)據(jù),并累加所述迭代次數(shù)存儲(chǔ)器中儲(chǔ)存的迭代次數(shù);
當(dāng)所述迭代次數(shù)等于所述迭代上限時(shí)所述控制模塊不生成第二調(diào)制信號(hào)。
7.如權(quán)利要求1所述的測量儀,其特征在于:
測量具有已知理想?yún)?shù)的待測物體時(shí),所述控制模塊根據(jù)所述待測物體的理想?yún)?shù)產(chǎn)生第一調(diào)制信號(hào);
測量未知形狀的待測物體時(shí),所述控制模塊接收外部輸入信息,并根據(jù)所述輸入信息產(chǎn)生第一調(diào)制信號(hào)。
8.如權(quán)利要求1所述的測量儀,其特征在于:所述光路系統(tǒng)還包括調(diào)節(jié)系統(tǒng),所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)與所述控制模塊連接,并根據(jù)所述控制模塊發(fā)出的移動(dòng)信號(hào)移動(dòng)所述待測物體或移動(dòng)光路系統(tǒng)。
9.如權(quán)利要求1所述的測量儀,其特征在于:所述控制模塊根據(jù)一次或多次獲得的測量數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算后得出測量結(jié)果。
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