[發明專利]柔性顯示器及其制備方法在審
| 申請號： | 201710011004.3 | 申請日： | 2017-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN106784384A | 公開（公告）日： | 2017-05-31 |
| 發明（設計）人： | 卜凡中;徐磊;郭瑞 | 申請（專利權）人： | 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司;昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號： | H01L51/52 | 分類號： | H01L51/52;H01L27/32 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 柔性 顯示器 及其 制備 方法 | ||
1.一種柔性顯示器的制備方法，其特征在于，包括：
提供一柔性襯底；
在所述柔性襯底上形成一阻擋層，所述阻擋層包括依次位于所述柔性襯底上的第一氧化硅層、氮化硅層和第二氧化硅層，所述第一氧化硅層的厚度大于所述氮化硅層的厚度。
2.如權利要求1所述的柔性顯示器的制備方法，其特征在于，還包括：對所述柔性襯底進行氧氣氛等離子體預處理。
3.如權利要求2所述的柔性顯示器的制備方法，其特征在于，進行氧氣氛等離子體預處理的時間為50s～200s，氣體流量為1000sccm～8000sccm，功率為0.5KW～2KW，壓強為100Pa～300Pa。
4.如權利要求1所述的柔性顯示器的制備方法，其特征在于，所述第一氧化硅層的厚度為所述氮化硅層的厚度為
5.如權利要求1或4所述的柔性顯示器的制備方法，其特征在于，所述第二氧化硅層的厚度大于所述氮化硅層的厚度。
6.如權利要求5所述的柔性顯示器的制備方法，其特征在于，所述第二氧化硅層的厚度為
7.如權利要求1所述的柔性顯示器的制備方法，其特征在于，還包括：依次在所述阻擋層上形成薄膜晶體管層、有機發光二極管層及封裝層。
8.一種柔性顯示器，其特征在于，包括：
柔性襯底；
位于所述柔性襯底上的一阻擋層，所述阻擋層包括依次位于所述柔性襯底上的第一氧化硅層、氮化硅層和第二氧化硅層，所述第一氧化硅層的厚度大于所述氮化硅層的厚度。
9.如權利要求8所述的柔性顯示器，其特征在于，還包括：位于所述阻擋層上的薄膜晶體管層、有機發光二極管層及封裝層。
10.如權利要求8所述的柔性顯示器，其特征在于，所述第二氧化硅層的厚度大于所述氮化硅層的厚度。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件；專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的；具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射；專門適用于將這些輻射能轉換為電能，或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的，如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
