[發明專利]陣列基板及其制作工藝、顯示面板、顯示裝置

在審

• 申請號: 201710005659.X
• 申請日: 2017-01-04
• 公開（公告）號: CN106653775A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 閆杰;王凱;張艷輝;高小龍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291
• 代理人: 任嘉文

技術領域

本申請涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板及其制作工藝、顯示面板、顯示裝置。

背景技術

在液晶基板制造過程中，為了使液晶分子形成一定的角度，通常需要對基板上的取向膜進行摩擦取向。在這一過程中如果會出現摩擦不均勻，會造成面板品質不良。摩擦不均勻(Rubbing Mura)現象的產生機理是由于被摩擦(Rubbing)的表面不平，導致在Rubbing過程中，造成Rubbing布上的絨毛分布不均勻，而產生Rubbing Mura。

高級超維場轉換技術(Advanced Super Dimension Switch，ADS)產品在進行Rubbing時，參見圖1，滾輪101Rubbing方向與柵線(Gate線)平行，在Rubbing過程中由于Gate線區域103比玻璃基板104表面偏高，導致Rubbing布102的絨毛分布不均，即圖中區域1021內的Rubbing布的絨毛分布不均勻，從而在Rubbing時，容易在Gate線區域103上產生Rubbing Mura 106。

發明內容

本申請實施例提供了一種陣列基板及其制作工藝、顯示面板、顯示裝置，用以防止產生Rubbing Mura或降低Rubbing Mura的程度。

本申請實施例提供的一種陣列基板，包括玻璃基板和設置在所述玻璃基板之上的層結構，所述層結構中具有凸凹不平的膜層，所述陣列基板還包括：用于調整所述凸凹不平的膜層的平整度的膜層。

本申請實施例通過在陣列基板中設置用于調整凸凹不平的膜層的平整度的膜層，從而可以使得陣列基板更加平整，防止產生Rubbing Mura或降低Rubbing Mura的程度。

可選地，所述凸凹不平的膜層為柵極掃描線。

本申請實施例，通過對柵極掃描線設置用于調整柵極掃描線所在的凸凹不平的膜層的平整度的膜層，從而降低或避免薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)的段差，因此可以降低Rubbing Mura的程度或防止產生Rubbing Mura。

可選地，所述用于調整所述凸凹不平的膜層的平整度的膜層，為透明膜層。

由于采用透明膜層，從而不影響光的透過率。

可選地，所述透明膜層中設置有凹槽，所述柵極掃描線層設置在所述凹槽內。

若柵極掃描線層全部設置在凹槽內，則可以得到平整的層結構，從而防止產生Rubbing Mura；若柵極掃描線層部分設置在凹槽內，則可以得到較為平整的層結構，從而降低Rubbing Mura的程度。

可選地，所述柵極掃描線層全部設置在所述凹槽內，并且將所述凹槽填平。

可選地，所述透明膜層為防藍光膜層。

通過利用防藍光膜層調整TFT段差，從而既可以防藍光，又可以降低Rubbing Mura的程度或防止出現Rubbing Mura。

本申請實施例提供的一種顯示面板，包括本申請實施例所述的陣列基板。

本申請實施例提供的一種顯示裝置，包括本申請實施例所述的顯示面板。

本申請實施例提供的一種本申請實施例所述的陣列基板的制作工藝，包括設置玻璃基板，以及在所述玻璃基板之上設置層結構，所述層結構中具有凸凹不平的膜層，在所述玻璃基板之上設置所述層結構的過程中，包括設置用于調整所述凸凹不平的膜層的平整度的膜層。

可選地，所述用于調整所述凸凹不平的膜層的平整度的膜層，為防藍光膜層；所述凸凹不平的膜層為柵極掃描線；

在所述玻璃基板之上設置所述層結構，具體包括：

在所述玻璃基板上設置防藍光膜層；

在所述防藍光膜層上設置凹槽；

在所述凹槽內設置柵極掃描線。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡要介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例，對于本領域的普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現有技術中的Rubbing Mura現象的產生過程示意圖；

圖2～圖14為本申請實施例提供的制作陣列基板的過程中的各結構示意圖；

圖15為現有技術中的陣列基板的結構示意圖。

具體實施方式

本申請實施例提供了一種陣列基板及其制作工藝、顯示面板、顯示裝置，用以防止產生Rubbing Mura或降低Rubbing Mura的程度。