[發明專利]一種防輻射注射裝置

在審

• 申請號: 201710003935.9
• 申請日: 2017-01-04
• 公開（公告）號: CN106730306A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 李思進;劉海燕;胡光
• 申請（專利權）人: 山西醫科大學
• 主分類號: A61M36/08
• 分類號: A61M36/08;A61M5/20
• 代理公司: 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙)11435
• 代理人: 申紹中

技術領域

本發明屬于防輻射醫療裝置技術領域，具體涉及一種防輻射注射裝置。

背景技術

核醫學顯像藥物的注射，為了對工作人員進行放射性防護，需要在帶有防護屏的專用窗口或者防護屏后進行床旁注射。藥物推注時，目前一般采用的措施是帶鉛手套，但會影響操作的靈敏度，增加了操作難度；或者用防輻射注射鉛套，可以減少輻射，但是操作不易，且每注射一次，就需要工作人員去通風櫥把注射完畢的注射器取出來，放在放射性廢物處，然后更換一個注滿藥物的注射器，再給下一個患者進行注射，這樣會占用一部分時間，影響工作效率。因此，在現實工作場所，有的工作人員為了操作方便、注射準確、節約時間，就會僅在防護屏隔離情況下，帶普通醫用手套進行注射操作，這樣就不可避免的對操作者手部帶來輻射危害。

顯像所用放射性藥物及生理鹽水，均為無色的，尤其是利尿腎動態顯像時，除了應用生理鹽水、放射性藥物，還需要速尿，這些藥物均為無色的；在顯像時，它們的注射是有一定順序的，所以為了保證注射順序正確，需要用標記筆在針管上進行標記，增加了工作復雜性，即使這樣，在推注之前，也需要再次確認所取針管是正確的，避免出現差錯。

注射藥物操作步驟：第一步用裝有生理鹽水的注射器，前面連接一個軟管針頭，建立靜脈通路；第二步然后彎折軟管針頭連接注射器的那一邊，換上裝有放射性藥物的注射器，進行推注，第三步需要再次彎折軟管針頭連接注射器的那一邊，換上速尿，進行推注，在這個過程中需要工作人員操作熟練，但也不可避免的在彎折過程中，把建立好的靜脈通道拔出血管，導致注射失敗；而且在更換注射器過程中，也不可避免會有藥物等物質從打開、準備更換的細管針頭另一側流出，這樣可能導致放射性藥物沾染檢查床、操作人員手、病人衣物等；并且腎動態顯像，為了保證檢查圖像質量，需要“彈丸”注射，但是在多次更換注射器的過程中，要求工作人員動作迅速，即使這樣，也不可避免的延長了注射時間，無法保證高效“彈丸”注射。

腎動態顯像采集體位：患者先躺在檢查床上，儀器擺好采集窗，然后靜脈注射藥物，同時開機采集圖像。所以，注射藥物這個過程都是操作人員在床旁進行，即使使用隔離防護設施，但對于手部也是屬于沒有防護保護的狀態。

發明內容

針對上述技術問題，本發明提供了一種防輻射注射裝置，該注射裝置提高操作時的靈敏度、減輕工作負擔、降低輻射對工作人員的傷害、提高工作效率。

為了解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是：

一種防輻射注射裝置，包括密封腔體、支撐裝置和注射裝置，所述密封腔體的一側設有可打開關閉的門體，所述支撐裝置包括托架和注射器固定裝置，所述托架固定在密封腔體的內部底端，所述注射器固定裝置固定在托架上，所述注射裝置包括注射器、聯接管和帶有針頭的軟細管，所述注射器與聯接管和軟細管依次連通，所述注射裝置可通過注射器固定在注射器固定裝置上，所述注射器上端可與注射器推動裝置接觸，所述注射器推動裝置與密封腔體的頂部聯接并有部分暴露在密封腔體的外部，方便從外部對注射器進行推注，所述密封腔體靠近門體的底部上開有半圓形的通孔，所述軟細管帶有針頭的一端可通過該通孔伸出到密封腔體的外部。

所述聯接管為三通管或四通管，上端分別連通有注射器，每個注射器均固定在注射器固定裝置上，每個注射器上端均設置有注射器推動裝置，下端分別連通有軟細管。

所述密封腔體的門體上設有兩個操作孔，方便操作人員將手和胳膊伸進去進行操作。

所述操作孔聯接有帶鉛手套，該帶鉛手套將密封腔體的內外分隔開，防止操作人員操作時受到輻射。

所述密封腔體內可放置兩個鉛盒，一個鉛盒內部放置有裝了藥物的注射器，另一個鉛盒內部放置有注射完藥物的空注射器。

所述注射器推動裝置為螺桿，且該螺桿上設有刻度，所述密封腔體上端設有與該螺桿配合的螺紋孔，通過旋轉該螺桿實現注射器的推注。

所述螺桿一端聯接有減速電機，該減速電機的開關通過計算機控制，通過計算機即可實現螺桿的下壓，實現注射器的定量推注。

所述密封腔體的門體及門體相對面均采用鉛玻璃，使其兩側的醫護人員及病人均可從外部看到密封腔體內部的情況，所述注射器固定裝置為套管，套管可采用高硬度玻璃材質，方便人們查看注射器的用量，所述套管上端設置有簧片，通過該簧片可夾緊不同尺寸的注射器。

所述密封腔體底端通過支腿聯接有萬向輪，所述萬向輪上設有駐車裝置，可將萬向輪固定，所述支腿為可伸縮式，調整裝置的水平高度。