[發明專利]處理沉鎳鈷后液的方法有效
| 申請號: | 201710003224.1 | 申請日: | 2017-01-03 |
| 公開(公告)號: | CN106834741B | 公開(公告)日: | 2019-07-12 |
| 發明(設計)人: | 孫寧磊;彭建華;劉國;李少龍;孫文亮 | 申請(專利權)人: | 中國恩菲工程技術有限公司 |
| 主分類號: | C22B23/00 | 分類號: | C22B23/00;C22B3/12 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 趙天月 |
| 地址: | 100038*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 沉鎳鈷后液 方法 | ||
本發明公開了處理沉鎳鈷后液的方法,包括:(1)將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈣溶液進行混合,得到二段鎳鈷沉淀后礦漿;(2)將二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理,得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿,并將二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理;(3)將二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈣溶液進行混合,得到混合礦漿,并將混合礦漿返回步驟(1)替代第一氫氧化鈣溶液與一段沉鎳鈷后液進行混合,其中,一段沉鎳鈷后液來源于紅土鎳礦氯化物體系濕法冶煉過程。該方法可以顯著提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能,并且將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。
技術領域
本發明屬于鎳鈷濕法冶金領域,具體而言,本發明涉及一種處理沉鎳鈷后液的方法。
背景技術
目前濕法紅土礦冶煉金屬鎳流程中一般采用硫酸體系處理,而氯化物鹽酸體系具有效率高、渣量小等特點,目前也被廣泛研究。一般地,二段沉鎳工序一般采用石灰乳作為沉淀劑,直接加入一段沉鎳鈷后液中進行反應,其原理簡單,操作簡便,沉淀劑原料容易購買,在業界沉鎳工序較為常用。然而由于其堿性強,工業實際操作過程中加料很容易形成局部過堿,從而導致沉淀粒度小,沉降能差。
因此,現有的處理紅土鎳礦氯化物體系濕法冶煉過程所得沉鎳鈷后液的技術有待進一步改進。
發明內容
本發明旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此,本發明的一個目的在于提出一種處理沉鎳鈷后液的方法,該方法可以顯著提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能和濃度。
在本發明的一個方面,本發明提出了一種處理沉鎳鈷后液的方法。根據本發明的實施例,該方法包括:
(1)將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈣溶液進行混合,以便得到二段鎳鈷沉淀后礦漿;
(2)將所述二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理,以便得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿,并將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理;
(3)將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈣溶液進行混合,以便得到混合礦漿,并將所述混合礦漿返回步驟(1)替代所述第一氫氧化鈣溶液與所述一段沉鎳鈷后液進行混合,
其中,所述一段沉鎳鈷后液來源于紅土鎳礦氯化物體系濕法冶煉過程。
由此,根據本發明實施例的處理沉鎳鈷后液的方法通過將二段沉鎳鈷濃密礦漿與氫氧化鈣溶液混合后的混合礦漿供給至步驟(1)中替代氫氧化鈣溶液作為一段沉鎳鈷后液的沉淀劑使用,在加料過程中可以有效避免局部過堿現象的產生,從而可以顯著提高二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀的粒度,進而提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能,同時較現有技術中采用石灰乳作為沉淀劑相比,本申請在沉淀過程中不會產生大量的石膏渣,從而將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。
另外,根據本發明上述實施例的處理鎳鈷后液的方法還可以具有如下附加的技術特征:
在本發明的一些實施例中,在步驟(1)和步驟(3)中,所述第一氫氧化鈣溶液和所述第二氫氧化鈣溶液的濃度分別獨立地為10~25wt%。
在本發明的一些實施例中,在步驟(1)中,將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈣溶液按照質量比為(5~15):1進行混合。
在本發明的一些實施例中,在步驟(1)中,將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈣溶液混合1~5小時。
在本發明的一些實施例中,在步驟(1)中,將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈣溶液在40~70攝氏度下進行混合。
在本發明的一些實施例中,在步驟(3)中,將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與所述第二氫氧化鈣溶液混合1~10min。
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