[發明專利]一種瓷磚拋光方法及其終端

在審

• 申請號: 201710002361.3
• 申請日: 2017-01-03
• 公開（公告）號: CN106736883A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 陳琪昌
• 申請（專利權）人: 佛山市三水區琪昌機械設備有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B29/02;B24B49/00;B24B51/00
• 代理公司: 深圳市精英專利事務所44242
• 代理人: 馮筠

1.一種瓷磚拋光方法，其特征在于，所述方法包括：

檢測磚坯磚面粗糙度；

判斷檢測的磚坯磚面粗糙度是否在預設的磚面粗糙度范圍內；

若檢測的磚坯磚面粗糙度不在預設的磚面粗糙度范圍內，則計算出磚面粗糙度與預設的磚面粗糙度范圍中間值的差值，根據差值計算出磨頭進給或者退出深度；

根據計算出的磨頭進給或退出深度，控制磨頭向磚面方向進給或退出進行拋光；

檢測磨頭拋光后的磚坯磚面粗糙度；

判斷檢測的磨頭拋光后磚面粗糙度是否在預設的磚面粗糙度范圍內；

若磚面粗糙度在預設的磚面粗糙度范圍內，則控制磨頭保持此拋光位置深度，繼續拋光。

2.根據權利要求1所述的瓷磚拋光方法，其特征在于：若檢測的磚坯磚面粗糙度在預設的磚面粗糙度范圍內，則控制磨頭保持此拋光位置深度，繼續拋光。

3.根據權利要求1所述的瓷磚拋光方法，其特征在于：若檢測的磨頭拋光后磚面粗糙度不在預設的磚面粗糙度范圍內，則繼續計算出磚面粗糙度與預設的磚面粗糙度范圍的中間值的差值，根據差值計算出磨頭進給或退出深度，進行拋光。

4.根據權利要求1所述的瓷磚拋光方法，其特征在于：還包括接收磚坯的位置信息，確定磚坯的物理位置信息。

5.根據權利要求4所述的瓷磚拋光方法，其特征在于：還包括根據接收磚坯的位置信息，對拋光磨頭進行位置校準。

6.一種瓷磚拋光終端，其特征在于，所述終端包括：第一檢測單元、第一判斷單元、計算單元、第一控制單元、第二檢測單元、第二判斷單元以及第二控制單元，其中：

第一檢測單元，用于檢測磚坯磚面粗糙度；

第一判斷單元，判斷檢測的磚坯磚面粗糙度是否在預設的磚面粗糙度范圍內；

計算單元，用于若檢測的磚坯磚面粗糙度不在預設的磚面粗糙度范圍內，則計算出磚面粗糙度與預設的磚面粗糙度范圍中間值的差值，根據差值計算出磨頭進給或者退出深度；

第一控制單元，用于根據計算出的磨頭進給或退出深度，控制磨頭向磚面方向進給或退出進行拋光；

第二檢測單元，用于檢測磨頭拋光后的磚坯磚面粗糙度；

第二判斷單元，判斷檢測的磨頭拋光后磚面粗糙度是否在預設的磚面粗糙度范圍內；

第二控制單元，用于若磚面粗糙度在預設的磚面粗糙度范圍內，則控制磨頭保持此拋光位置深度，拋光。

7.根據權利要求6所述的瓷磚拋光終端，其特征在于：第一判斷單元判斷出檢測的磚坯磚面粗糙度在預設的磚面粗糙度范圍內，則第二控制單元控制磨頭保持此拋光位置深度，拋光。

8.根據權利要求6所述的瓷磚拋光終端，其特征在于：第二判斷單元判斷出檢測的磨頭拋光后磚面粗糙度不在預設的磚面粗糙度范圍內，則計算單元計算出磚面粗糙度與預設的磚面粗糙度范圍中間值的差值，根據差值計算出磨頭進給或者退出深度，進行拋光。

9.根據權利要求6所述的瓷磚拋光終端，其特征在于：還包括接收單元，用于接收磚坯的位置信息，確定磚坯的物理位置信息。

10.根據權利要求9所述的瓷磚拋光終端，其特征在于：還包括校準單元，用于根據接收磚坯的位置信息，對拋光磨頭進行位置校準。