[發明專利]多個吸合磁片的分離工裝

在審

• 申請號: 201710001849.4
• 申請日: 2017-01-03
• 公開（公告）號: CN106842082A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 武剛
• 申請（專利權）人: 武剛
• 主分類號: G01R33/12
• 分類號: G01R33/12;B25B27/00
• 代理公司: 寧波市鄞州甬致專利代理事務所(普通合伙)33228
• 代理人: 代忠炯

技術領域

本發明涉及磁片檢測輔助設備的技術領域，具體地是一種多個吸合磁片的分離工裝。

背景技術

磁片加工完成后往往需要進行抽樣檢測磁性能，而片狀產品在充磁后需要進行多項磁性能的檢測，因此充磁后的待檢測磁片需要進行暫存，而將各磁片單獨存放會大大增加存儲空間，因此為了減少磁片的暫存空間，往往將同批次的多個磁片吸合后存放。這就導致操作人員在檢測時需要將雙手將多片吸合的磁片逐一剝離。而磁片在充磁后的磁吸力大，并且片狀產品的受力面積小，這不就大大增加了操作人員的勞動強度和操作難度。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是：提供一種多個吸合磁片的分離工裝，其可以快速的將吸合的磁片進行分離，并且操作簡單，由此減小了操作人員的勞動強度。

本發明所采取的技術方案是：提供一種多個吸合磁片的分離工裝，其特征在于：它包括第一擺桿和設于第一擺桿上方的第二擺桿，所述第一擺桿的一端與第二擺桿的一端通過一轉軸沿水平方向轉動配合，所述第一擺桿的上端面上設有一凹槽，當至少兩片相互吸合的磁片置于凹槽內時底層磁片沿水平方向限位于凹槽內，所述的第二擺桿沿水平方向轉動至第二擺桿的側面與底層磁片上方的倒數第二層磁片的外側壁相抵靠，并推動倒數第二層磁片與底層磁片沿水平方向相對移動。

所述凹槽背離第二擺桿的側壁上設有一導向斜面，導向斜面的上端與第一擺桿的上端面連接，導向斜面的下端與凹槽的內側壁連接，且當磁片置于凹槽內時底層磁片的下端面位于導向斜面與凹槽側壁連接處所在的水平面下方，倒數第二層磁片的下端面位于導向斜面與凹槽側壁連接處所在的水平面上方。

所述第二擺桿的側壁上位于倒數第二層磁片相對應的位置設有彈性層，當第二擺桿沿水平方向朝倒數第二層磁片所在位置擺動時第二擺桿通過彈性層與倒數第二層磁片的側壁相抵靠。

所述的凹槽內設有一墊高片，底層磁片擱置于墊高片上。

第一擺桿內位于凹槽下方設有一通孔，通孔的上端與凹槽的槽底連通，通孔的下端貫穿第一擺桿的下端面。

所述墊高片為橡膠材質制成。

墊高片的下端面上設有一凸柱，用于插入通孔內，且當墊高片置于凹槽內時凸柱的外側壁與通孔的內側壁緊配合。

采用以上結構后，本發明的多個吸合磁片的分離工裝與現有技術相比具有以下優點：通過第一擺桿和第二擺桿的剪切運動，可以使兩片吸合的磁片快速的分離，因此操作簡單，且操作人員勞動強度小。

附圖說明

圖1是本發明的多個吸合磁片的分離工裝的結構示意圖。

圖2是本發明的多個吸合磁片的分離工裝的工作狀態的側視示意圖。

圖3為圖2的另一個工作狀態的側視示意圖。

圖4是本發明的凹槽位置的剖視示意圖。

其中，1、第一擺桿，2、第二擺桿，3、轉軸，4、凹槽，5、磁片，6、導向斜面，7、彈性層，8、墊高片，9、通孔，10、凸柱。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步說明。

本發明提供一種多個吸合磁片的分離工裝，其特征在于：它包括第一擺桿1和設于第一擺桿1上方的第二擺桿2，所述第一擺桿1的一端與第二擺桿2的一端通過一轉軸3沿水平方向轉動配合，所述第一擺桿1的上端面上設有一凹槽4，當至少兩片相互吸合的磁片5置于凹槽4內時底層磁片沿水平方向限位于凹槽4內，所述的第二擺桿2沿水平方向轉動至第二擺桿2的側面與底層磁片上方的倒數第二層磁片的外側壁相抵靠，并推動倒數第二層磁片與底層磁片沿水平方向相對移動。

所述凹槽4背離第二擺桿2的側壁上設有一導向斜面6，導向斜面6的上端與第一擺桿1的上端面連接，導向斜面6的下端與凹槽4的內側壁連接，且當磁片5置于凹槽4內時底層磁片的下端面位于導向斜面6與凹槽4側壁連接處所在的水平面下方，倒數第二層磁片的下端面位于導向斜面6與凹槽4側壁連接處所在的水平面上方。

所述第二擺桿2的側壁上位于倒數第二層磁片相對應的位置設有彈性層7，當第二擺桿2沿水平方向朝倒數第二層磁片所在位置擺動時第二擺桿2通過彈性層7與倒數第二層磁片的側壁相抵靠。

所述的凹槽4內設有一墊高片8，底層磁片擱置于墊高片8上。

第一擺桿1內位于凹槽4下方設有一通孔9，通孔9的上端與凹槽4的槽底連通，通孔9的下端貫穿第一擺桿1的下端面。

所述墊高片8為橡膠材質制成。

墊高片8的下端面上設有一凸柱10，用于插入通孔9內，且當墊高片8置于凹槽4內時凸柱10的外側壁與通孔9的內側壁緊配合。

以上就本發明較佳的實施例作了說明，但不能理解為是對權利要求的限制。本發明不僅局限于以上實施例，其具體結構允許有變化，凡在本發明獨立要求的保護范圍內所作的各種變化均在本發明的保護范圍內。