[發明專利]一種用于輻照生產裂變99Mo的低濃鈾鈾箔靶件

有效

• 申請號: 201710001111.8
• 申請日: 2017-01-03
• 公開（公告）號: CN106875999B
• 公開（公告）日: 2019-01-29
• 發明（設計）人: 于寧文;羅志福;鄧新榮;向學琴;梁積新;沈亦佳
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: G21G1/02
• 分類號: G21G1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于輻照生產裂變⁹⁹Mo的低濃鈾鈾箔靶件，其特征在于，該靶件為“三明治”式結構，包括內靶筒、外靶筒和鈾箔；所述鈾箔位于內靶筒和外靶筒之間；

所述內靶筒的內徑不變，外壁設計為錐形結構，錐度為1:160；

所述鈾箔包裹于內靶筒外側，鈾箔的厚度為120～150μm，鈾箔的內外表面均鍍了一層裂變反沖保護層，該保護層的厚度為12～18μm；所述裂變反沖保護層的材質為Ni，該材質是通過電鍍的方式鍍在鈾箔上，即得到U-Ni金屬箔；

所述外靶筒的外徑不變，內壁設計為錐形結構，外靶筒的內徑及內壁錐度分別與內靶筒的外徑及外壁錐度相適配；該低濃鈾鈾箔靶件，是使用擠脹器對靶件進行擠脹的，使用擠脹器反復擠脹至內靶筒-U-Ni金屬箔-外靶筒所有接觸面均勻緊密接觸且膨脹量突破內靶筒原幾何尺寸的0.2％；擠脹后將兩端因膨脹而變損的部分切除，兩端各切除40mm，兩端口酸蝕處理，去掉氧化層，清水洗凈，采用電子束焊封并采用X光對焊縫進行密封檢驗。

2.根據權利要求1所述的低濃鈾鈾箔靶件，其特征在于，所述內靶筒和外靶筒的材質為Al、Mg或Zr。

3.根據權利要求1所述的低濃鈾鈾箔靶件，其特征在于，所述內靶筒和外靶筒的材質為Al，外靶筒和內靶筒最薄端的壁厚為0.8～2mm。

4.根據權利要求1所述的低濃鈾鈾箔靶件，其特征在于，所述鈾箔在鍍裂變反沖保護層前后均進行熱力性能處理，其中鍍裂變反沖保護層前在400～500℃的高溫爐中進行熱處理2～3小時，鍍裂變反沖保護層后在700℃的高溫爐中熱處理2～3小時。