[發明專利]一種發射裝置及基站

有效

• 申請號: 201680090666.8
• 申請日: 2016-11-29
• 公開（公告）號: CN109952717B
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 蔣亞軍
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: H04B7/06
• 分類號: H04B7/06
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 馮艷蓮

1.一種發射裝置，其特征在于，包括至少兩個信號處理子系統以及發射子系統；

其中，每個信號處理子系統包括用于生成信號的信號生成單元、頻域處理單元、波束處理單元、碼域處理單元和控制單元，所述控制單元用于為所述碼域處理單元、所述頻域處理單元及所述波束處理單元分別配置處理規則，所述至少兩個信號處理子系統中的不同的信號處理子系統生成的信號在碼域、頻域或空域中的任一個或多個域中正交；其中，所述至少兩個信號處理子系統用于通過所述發射子系統向至少兩個空間方向發射波束，且不同空間方向上的波束占用的頻域位置不同。

2.如權利要求1所述的發射裝置，其特征在于，

所述頻域處理單元用于接收所述信號生成單元生成的信號，為所述信號分配頻域位置；其中，不同的發射子系統中的頻域處理單元處理的信號所占用的頻域位置不同；

所述波束處理單元用于接收所述頻域處理單元處理后的信號，對所述頻域處理單元處理后的信號產生第一空間方向上的波束，并將所述波束發送給所述發射子系統；其中，不同的信號處理子系統中的波束處理單元處理的信號所發射的空間方向不同，或不同的信號處理子系統中的波束處理單元處理的信號所發射的空間方向存在重疊。

3.如權利要求2所述的發射裝置，其特征在于，所述至少兩個信號處理子系統中的頻域處理單元處理后的信號在頻域上兩兩正交。

4.如權利要求2或3所述的發射裝置，其特征在于，所述至少兩個信號處理子系統中的波束處理單元處理后的信號在空域上兩兩正交。

5.如權利要求2或3所述的發射裝置，其特征在于，所述碼域處理單元，用于接收所述信號生成單元生成的信號，為所述信號進行加擾處理，并將加擾處理后的信號傳輸給所述頻域處理單元。

6.如權利要求5所述的發射裝置，其特征在于，所述至少兩個信號處理子系統中的碼域處理單元處理后的信號在碼域上兩兩正交。

7.如權利要求2或3所述的發射裝置，其特征在于，所述每個信號處理子系統還包括功率處理單元，用于接收所述波束處理單元發送的所述波束處理單元處理后的信號，增大所述波束處理單元處理后的信號的功率，并將增大功率后的信號發送給所述發射子系統。

8.如權利要求7所述的發射裝置，其特征在于，所述發射裝置還包括削波單元，用于接收所述每個信號處理子系統中的所述功率處理單元輸出的增大功率后的信號，對所述增大功率后的信號進行削波處理，并將削波處理后的信號發送給所述發射子系統。

9.一種基站，其特征在于，包括如權利要求1-8任一所述的發射裝置。