[發明專利]陶瓷部件及其形成方法在審
| 申請號: | 201680089635.0 | 申請日: | 2016-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN109803942A | 公開(公告)日: | 2019-05-24 |
| 發明(設計)人: | S·波提利瑞;V·約翰內森;N·納哈斯;S·D·哈特蘭 | 申請(專利權)人: | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/565 | 分類號: | C04B35/565 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 徐舒 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 第二相 坯體 金屬氧化物 陶瓷部件 碳化硅 晶界 | ||
1.一種坯體,其包括:
第一相,其包括碳化硅;
第二相,其包括金屬氧化物,其中所述第二相是定位在所述第一相的晶界處的離散晶間相;并且
其中所述坯體的平均強度為至少700MPa。
2.一種坯體,其包括:
第一相,其包括碳化硅并且其平均晶粒尺寸不大于2微米;
第二相,其包括金屬氧化物,其中所述第二相是定位在所述第一相的晶界處的離散晶間相;并且
其中所述坯體包括以下中的至少一個:
至少為1000/100微米圖像寬度的第二相計數指數;
至少為2000像素//100微米圖像寬度的第二相平均面積指數;
至少為3.00像素2的第二相平均尺寸指數;
或其任何組合。
3.根據權利要求1和2中任一項所述的坯體,其中所述坯體包括所述坯體的總重量的至少70wt%并且不大于99wt%的所述第一相,并且其中所述第一相包括α相碳化硅。
4.根據權利要求1和2中任一項所述的坯體,其中所述第一相的平均晶粒尺寸不大于2微米。
5.根據權利要求1和2中任一項所述的坯體,其中所述第一相的最大晶粒尺寸不大于10微米。
6.根據權利要求1和2中任一項所述的坯體,其中所述坯體包括所述坯體的總重量的至少1wt%并且不大于10wt%的所述第二相,并且其中所述第二相的所述金屬氧化物包括鋁和硅。
7.根據權利要求1和2中任一項所述的坯體,其中所述坯體的平均強度為至少700MPa。
8.根據權利要求1和2中任一項所述的坯體,其中所述坯體的平均強度為至少700MPa并且不大于1200MPa。
9.根據權利要求1和2中任一項所述的坯體,其中所述第二相是定位在所述第一相的所述晶界處的離散晶間相,并且其中所述坯體的第二相計數指數為至少1000。
10.根據權利要求2和9中任一項所述的坯體,其中所述第二相計數指數為至少1100/100微米圖像寬度并且不大于4000/100微米圖像寬度。
11.根據權利要求2和9中任一項所述的坯體,其中所述第二相平均面積指數為至少2500像素/100微米圖像寬度并且不大于30000像素/100微米圖像寬度。
12.根據權利要求2和9中任一項所述的坯體,其中所述第二相平均尺寸指數為至少3.10像素2并且不大于10.00像素2。
13.根據權利要求2和9中任一項所述的坯體,其中所述坯體包括以下中的至少一個:
處于至少1000/100微米圖像寬度并且不大于4000/100微米圖像寬度的范圍內的第二相計數指數;
處于至少2000像素/100微米圖像寬度并且不大于30000像素/100微米圖像寬度的范圍內的第二相平均面積指數;
處于至少3.00像素2并且不大于10.00像素2的范圍內的第二相平均尺寸指數;
或其任何組合。
14.根據權利要求1和2任一項所述的坯體,其中所述坯體的平均磨損值處于包含至少0.0001cc并且不大于0.1cc的范圍內,并且進一步地其中所述坯體的平均斷裂韌度為至少3.7MPa m1/2并且不大于7MPa m1/2,并且進一步地其中所述坯體的平均硬度(HV0.1kg)為至少20GPa并且不大于40GPa。
15.一種形成坯體的方法,其包括:
獲得粉末材料混合物,所述混合物包括:
第一粉末材料,其包括碳化硅;以及
第二粉末材料,其包括金屬氧化物;以及
燒結所述粉末材料混合物以形成包括以下的坯體:
第一相,其包括碳化硅;
第二相,其包括金屬氧化物,其中所述第二相是定位在所述第一相的晶界處的離散晶間相;并且
其中所述坯體的平均強度為至少700MPa。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司,未經圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680089635.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:電介質陶瓷組合物及陶瓷電子零件
- 下一篇:生產稀乙烯的方法





