[發(fā)明專利]用于為內(nèi)燃發(fā)動機的減排系統(tǒng)控制還原劑噴射的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680085609.0
• 申請日: 2016-05-13
• 公開（公告）號: CN109072749B
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: T·阿爾霍;M·勒夫霍姆;A·霍爾姆奎斯特
• 申請（專利權(quán)）人: 瓦錫蘭芬蘭有限公司
• 主分類號: F01N3/20
• 分類號: F01N3/20;F01N9/00;F01N3/10
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 王小東;黃綸偉

1.一種為內(nèi)燃發(fā)動機(1)的減排系統(tǒng)(2)控制還原劑噴射的方法，該方法包括如下步驟：

利用流量計(10)測量(32)到達(dá)噴射器(5)的還原劑流量；

基于測量的所述還原劑流量和設(shè)定點值(22)控制至少一個閥(9)來調(diào)節(jié)(32)還原劑流量，

其特征在于，在所述設(shè)定點值(22)低于預(yù)定閾值(L1)的情況(33)下：

將低模式設(shè)定點值(LS)確定(34)為所述預(yù)定閾值(L1)或比所述預(yù)定閾值(L1)高的值(L2)；

以如下方式在重復(fù)的允許循環(huán)(D1)和限制循環(huán)(D2)中允許和限制(35)到達(dá)所述噴射器(5)的還原劑流，即：在所述允許循環(huán)(D1)過程中，當(dāng)控制至少一個閥時，使用所述低模式設(shè)定點值(LS)作為所述設(shè)定點值，而在所述限制循環(huán)(D2)過程中，防止還原劑流，所述允許循環(huán)(D1)和限制循環(huán)(D2)交替；以及

調(diào)節(jié)所述允許循環(huán)(D1)和所述限制循環(huán)(D2)的持續(xù)時間以使所述還原劑流量平均為所述設(shè)定點值(22)，

其中所述預(yù)定閾值(L1)與所述流量計(10)的最小精度極限對應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述允許循環(huán)(D1)過程中，根據(jù)PI或PID控制邏輯來控制至少一個閥(9)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述允許循環(huán)(D1)過程中，利用所述流量計(10)測量所述還原劑流量，并且測量平均流量以便利用所測量的所述平均流量將根據(jù)所述設(shè)定點值(22)的所述還原劑流量實現(xiàn)為平均值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，待控制的所述閥(9)為比例閥，并且在所述限制循環(huán)(D2)開始時，將用于所述比例閥的控制值存儲至存儲器(13)，并且之后：

將用于所述比例閥的所述控制值改變至零還原劑流量；

將所述控制值凍結(jié)為所述零還原劑流量，直到所述限制循環(huán)(D2)結(jié)束；以及

在所述限制循環(huán)(D2)結(jié)束時從所述存儲器(13)恢復(fù)所述控制值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，待控制的閥為比例閥(9)和開關(guān)閥(11)；并且

在所述限制循環(huán)(D2)開始時，凍結(jié)用于所述比例閥(9)的控制值，直到所述限制循環(huán)(D2)結(jié)束，并且關(guān)閉所述開關(guān)閥(11)；以及

在所述限制循環(huán)(D2)結(jié)束時，打開所述開關(guān)閥(11)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法進(jìn)一步包括如下步驟：

測量(14)所述內(nèi)燃發(fā)動機(1)的排放，并且在所測量的排放高于允許水平的情況下：

凍結(jié)所述設(shè)定點值(22)并且調(diào)節(jié)所述允許循環(huán)(D1)和所述限制循環(huán)(D2)的持續(xù)時間，并且/或者改變所述低模式設(shè)定點值(LS)，直到所測量的排放為允許水平或更低。