[發明專利]用于高壓清潔設備的閥裝置和閥槍

在審

• 申請號: 201680084090.4
• 申請日: 2016-04-15
• 公開（公告）號: CN108883427A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 馬丁·埃費爾;丹尼爾·克內德勒;拉爾夫·賽特;丹尼爾·馬諾喬;本雅明·魏斯;沃爾夫岡·霍爾茨瓦特;克里斯多佛·布羅伊爾
• 申請（專利權）人: 阿爾弗雷德·卡赫歐洲兩合公司
• 主分類號: B05B1/30
• 分類號: B05B1/30;B05B12/00;B05B9/01
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 潘小軍;李驥

1.一種用于高壓清潔設備的閥裝置，所述閥裝置用于控制清潔液的流動，特別是用于以受控方式輸出清潔液，所述閥裝置具有閥殼體(24)，所述閥殼體具有從閥入口(26)延伸到閥出口(28)的貫通通道(30)，在所述貫通通道中布置有閥座元件(108)，所述閥座元件構造出閥座(110)，并且在所述貫通通道中布置有關閉體(122)，由關閉彈簧(124)向所述關閉體加載朝向所述閥座(110)的方向上的關閉力并且所述關閉體在關閉位置中貼靠在所述閥座(110)上，而且通過移動閥挺桿(132)能使所述關閉體運動到與所述閥座(110)間隔開的打開位置，其特征在于，所述閥座元件(108)至少在構造出所述閥座(110)的閥座區域中由具有至少99.8％純度的氧化鋁陶瓷或由以帶有分散的氧化鋯的氧化鋁為基礎的分散陶瓷構成。

2.根據權利要求1所述的閥裝置，其特征在于，所述關閉體(122)至少在處于關閉位置時靠置在所述閥座(110)上的靠置區域中由具有至少99.8％純度的氧化鋁或由以帶有分散的氧化鋯的氧化鋁為基礎的分散陶瓷構成。

3.根據權利要求1或2所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(108)和/或所述關閉體(122)完全由具有至少99.8％純度的氧化鋁陶瓷或由以帶有分散的氧化鋯的氧化鋁為基礎的分散陶瓷構成。

4.根據權利要求3所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(108)和所述關閉體(122)由相同的陶瓷材料構成。

5.根據前述權利要求中任一項所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(198)具有錐形的密封面(111)，所述密封面形成所述閥座(110)。

6.根據權利要求5所述的閥裝置，其特征在于，所述密封面(111)是磨光或研磨的。

7.根據權利要求5或6所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(108)具有沿清潔液的流動方向(54)直接放置在所述密封面(111)之前的流動導引面(113)，所述流動導引面沿清潔液的流動方向(54)逐漸變小。

8.根據權利要求7所述的閥裝置，其特征在于，所述流動導引面(113)錐形地設計。

9.根據權利要求8所述的閥裝置，其特征在于，所述流動導引面(113)的開口角度(β)大于所述密封面(111)的開口角度(α)。

10.根據前述權利要求中任一項所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(108)相對于中軸線(115)旋轉對稱地設計。

11.根據前述權利要求中任一項所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(108)具有背對所述閥入口(26)的支撐面(118)，所述閥座元件(108)以所述支撐面貼靠在所述貫通通道(30)的配屬于所述閥座元件(108)的直徑變窄部上。

12.根據權利要求11所述的閥裝置，其特征在于，配屬于所述閥座元件(108)的直徑變窄部構造出徑向向內指向的階梯(58)。

13.根據權利要求11或12所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(108)具有在周向方向上包圍所述支撐面(118)的凹處(120)，在所述凹處中布置有密封元件(116)。

14.根據權利要求11、12或13所述的閥裝置，其特征在于，所述閥座元件(118)具有沿清潔液的流動方向(54)聯接至所述閥座(110)的、與所述閥座元件(108)的中軸線(115)同軸地延伸的貫通開口(112)，所述貫通開口在背對所述閥座(110)的端部區段中沿清潔液的流動方向(54)連續擴大。