[發明專利]用于施加薄膜涂層的真空裝置和用該真空裝置施加光學涂層的方法

有效

• 申請號: 201680083528.7
• 申請日: 2016-03-16
• 公開（公告）號: CN109642320B
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 弗拉基米爾·杰科夫萊維奇·石里波夫;伊珍妮·艾雷克薩德維奇·柯霍克羅;艾雷克薩德·艾雷克斯維奇·雅蘇娜;坎斯坦欽·耶夫根尼耶維奇·米亞斯尼庫;西亞爾?！っ坠谅寰S奇·納斯塔奇金
• 申請（專利權）人: 伊扎維克技術有限責任公司
• 主分類號: C23C16/54
• 分類號: C23C16/54;C23C16/06;C23C16/44
• 代理公司: 北京金信知識產權代理有限公司 11225
• 代理人: 王智;李海菊

本組發明涉及真空處理裝置和使用該裝置施加具有特定光學特性的薄膜涂層的方法。所述真空裝置包括負載鎖定室，其附接到輸送系統并且能夠與垂直布置在其內部的鼓式基板托架一起或者在沒有鼓式基板托架的情況下移動并且能夠通過位于處理室下方的水平高真空閘門連接到處理室。通過高密度等離子體中的化學沉積，薄膜光學涂層的施加在處理室的操作區中進行，其中涂層的施加涉及等離子體生成系統，其中電感耦合等離子體源沿著一垂直軸線布置，而且操作空間通過高真空泵送系統和防護屏被分成多個操作區域。本發明允許設備的緊湊配置和將高可用性的薄膜光學涂層施加到各種類型和尺寸的撓性實心基板上的高性能和經濟的方法。

技術領域

本組發明涉及用于施加涂層的技術設備領域，即用于施加具有給定的光學、電學和其它特性的薄膜涂層的真空處理設備。

背景技術

從現有技術中已知用于將薄膜涂層施加到工件上的各種方法和用于實施這些方法的裝置。

具體而言，要求保護的裝置和用于施加薄膜涂層的方法的類似情況是已知的[1]。所述參考文獻描述了一種批處理裝置，該裝置包括：鼓式基板托架，在其產生線上安裝并固定有基板；進給室和排放室，其彼此隔離并且位于垂直處理室的側面上，所述垂直處理室包括磁控管用于施加薄膜和等離子體發生器用于它們的氧化，所述磁控管位于基板托架周圍的處理室周邊上。在這種情況下，處理室中的基板的處理區域被擋板分開，并且被配置為從氣體等離子體捕獲諸如電子和離子的帶電粒子的柵格被安置在基板托架與等離子體發生器之間的處理區域中，該基板托架具有位于處理室的中心的基板。

根據所述專利的用于施加薄膜涂層的方法包括將薄膜涂層真空施加到置于旋轉鼓上的基板上及其氧化。

在這種情況下，基板多次移動通過每個處理區域。

所指定的裝置和方法的缺點如下：

真空裝置的低性能和產品的相當大的制造成本；

由于需要輸入和輸出負載鎖定室，所以存在用于將鼓式基板托架轉移和進給到負載鎖定室和處理室的復雜機構；

使用有限數量的處理裝置的能力，因為鼓式基板托架向處理室的水平進給需要用于輸入和輸出負載鎖定室的空間；

由于存在用于傳送、進給和連接到驅動機構的裝置而導致的基板托架的高制造成本；

真空處理裝置的使用壽命縮短，原因在于裝置內部存在機械和驅動機構以及低質量的最終薄膜涂層。

關于要求保護的裝置和用于施加薄膜涂層的方法的最接近的類似情況[2]，描述了用于將薄膜涂層施加到工件上的真空處理線，該真空處理線包括串聯布置的輸入負載鎖定室、輸入緩沖室、其中安裝有處理裝置的處理室、輸出緩沖室、輸出負載鎖定室和高真空泵以及基板托架，該基板托架被配置成旋轉鼓形式，通過軸承安裝在滑架上，可以通過輸送系統導軌沿著室移動。在這種情況下，在基板托架軸的端部安裝有可釋放的磁性耦合元件以用于傳遞旋轉，并且安置在托架的框架上的電致動器用于使基板托架旋轉。處理裝置沿著基板托架的運動被安裝在托架上，并且操作處理區域被定義為沿著運動的區域。

根據所述專利的方法包括施加薄膜涂層，其中基板位于鼓基板托架上，該鼓基板托架隨著基板連續地移動通過與鼓的旋轉軸線平行的處理室并且以相等恒定的線性和角速度旋轉。在這種情況下，在處理室中，通過位于處理區中的處理裝置來施加涂層。在實施工藝過程時，基板托架與基板通過負載鎖定室、處理室、緩沖室和處理線區域。當施加薄層然后氧化時，重復處理的基板的每個點連續通過用于施加超薄材料層的裝置。

所述生產線和方法的缺點如下：

需要使用線設備的大型生產設施和其高材料消耗，特別是在施加復雜和精密涂層的情況下，因為它需要增加處理室的數量并且施加復雜的控制和調整系統；