[發明專利]散射輻射的多重光譜的同時檢測

在審

• 申請號: 201680079402.2
• 申請日: 2016-04-18
• 公開（公告）號: CN108603839A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: F·艾塔;A·羅加奇;V·什科爾尼科夫
• 申請（專利權）人: 惠普發展公司;有限責任合伙企業
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;G02B5/32
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 周學斌;陳嵐

1.一種裝置，包括：

光源，其用于發射激發光束；

全息光學元件，其用于將所述激發光束轉換成多個激發光束；

采樣裝置，其用于將所述多個激發光束作為投射點的二維圖案而投射到所述裝置外側的表面上，以及用于響應于所述投射點的二維圖案來收集由所述表面發射的散射輻射；以及

檢測器，用于檢測所述散射輻射中的頻率偏移。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述全息光學元件包括：衍射掩模，其包括具有不同空間頻率的多個衍射光柵的疊加。

3.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括：

定位在所述采樣裝置與所述檢測器之間的衍射光柵，用于在所述散射輻射被傳遞到所述檢測器之前對所述散射輻射進行色散。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中在所述裝置外側的表面包括：

表面增強的基板。

5.根據權利要求4所述的裝置，其中所述表面增強的基板包括多個區域，以及所述基板的局部形貌跨越所述多個區域進行變化。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中所述局部形貌包括聚合物指狀物的圖案，以及利用金屬納米顆粒覆蓋所述聚合物指狀物中的至少一些。

7.根據權利要求6所述的裝置，其中通過使所述聚合物指狀物的空間布置跨越所述多個區域進行變化來造成所述局部形貌中的變化。

8.根據權利要求6所述的裝置，其中通過使所述聚合物指狀物之間的間隔跨越所述多個區域進行變化來造成所述局部形貌中的變化。

9.根據權利要求5所述的裝置，其中所述采樣裝置被配置成布置所述投射點的二維圖案，以使得投射點之一入射在所述多個區域中的每個區域上。

10.一種方法，包括：

提供激發光束；

將所述激發光束轉換成多個激發光束；

將所述多個激發光束作為投射點的二維圖案而投射到表面上；

響應于所述投射點的二維圖案，收集由所述表面發射的散射輻射，其中所述散射輻射同時包括散射輻射的多重光譜；以及

將所述散射輻射傳遞到檢測器。

11.根據權利要求10所述的方法，進一步包括：

提供表面增強的基板，要向所述表面增強的基板上投射所述投射點的二維圖案，其中包含至少一種分子的樣本被吸附到所述表面增強的基板上。

12.根據權利要求11所述的方法，其中所述提供包括：

在所述表面增強的基板中提供多個區域；以及

使所述基板的局部形貌跨越所述多個區域進行變化。

13.根據權利要求12所述的方法，其中所述局部形貌包括聚合物指狀物的圖案，以及利用金屬納米顆粒覆蓋所述聚合物指狀物中的至少一些。

14.根據權利要求13所述的方法，其中所述變化包括：

使所述聚合物指狀物的空間布置跨越所述多個區域進行變化；或者

使所述聚合物指狀物之間的間隔跨越所述多個區域進行變化。

15.根據權利要求12所述的方法，其中所述投射包括：

將所述投射點中的一個投射在所述多個區域中的每個區域上。