[發(fā)明專(zhuān)利]安裝裝置及拍攝處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680078485.3
• 申請(qǐng)日: 2016-01-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108702867B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 天野雅史;小谷一也;神尾龍平;山蔭勇介
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社富士
• 主分類(lèi)號(hào): H05K13/08
• 分類(lèi)號(hào): H05K13/08;G01B11/00;G06T3/40
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 穆德駿;安翔

1.一種安裝裝置，通過(guò)對(duì)包含電子元件及各自的基準(zhǔn)標(biāo)記的多個(gè)低分辨率圖像進(jìn)行處理來(lái)生成所述電子元件的高分辨率圖像的超分辨率處理，取得所述電子元件的保持狀態(tài)并向基板安裝所述電子元件，

所述安裝裝置具備：

頭，具有保持所述電子元件的保持部件和所述基準(zhǔn)標(biāo)記；

拍攝裝置，將所述保持部件上所保持的電子元件和所述基準(zhǔn)標(biāo)記包含于拍攝范圍中；及

控制裝置，控制所述拍攝裝置，以在不同的拍攝條件下拍攝用于取得所述基準(zhǔn)標(biāo)記的位置的標(biāo)記圖像和用于所述超分辨率處理的低分辨率圖像，并且，所述控制裝置基于所述標(biāo)記圖像中包含的所述電子元件的圖像區(qū)域來(lái)設(shè)定作為所述超分辨率處理的對(duì)象的處理區(qū)域，其中，所述拍攝條件包括所述拍攝裝置的照明部的點(diǎn)亮位置、照明顏色、曝光時(shí)間及焦距中的一個(gè)以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的安裝裝置，其中，

通過(guò)所述超分辨率處理，根據(jù)所述高分辨率圖像取得包括所述電子元件的精確位置在內(nèi)的保持狀態(tài)，

所述控制裝置基于所述標(biāo)記圖像中包含的所述電子元件的圖像區(qū)域來(lái)取得所述電子元件的粗略位置，并基于所取得的所述電子元件的粗略位置來(lái)設(shè)定所述處理區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的安裝裝置，其中，

所述控制裝置取得主體部的粗略位置作為所述電子元件的粗略位置，并基于所取得的所述主體部的粗略位置來(lái)設(shè)定所述處理區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的安裝裝置，其中，

所述控制裝置取得規(guī)定有電極相對(duì)于所述電子元件的所述主體部的位置的元件信息，基于所取得的元件信息和所述主體部的粗略位置導(dǎo)出所述電極的粗略位置，并基于所導(dǎo)出的所述電極的粗略位置來(lái)設(shè)定所述處理區(qū)域。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的安裝裝置，其中，

所述控制裝置控制所述拍攝裝置，以在所述頭處于所述拍攝范圍內(nèi)的第一位置的情況下，依次拍攝所述標(biāo)記圖像和用于所述超分辨率處理的低分辨率圖像，然后，在所述頭處于所述拍攝范圍內(nèi)的不同于所述第一位置的第二位置的情況下，拍攝所述標(biāo)記圖像和用于所述超分辨率處理的低分辨率圖像，并且，所述控制裝置利用在所述第一位置拍攝的所述標(biāo)記圖像來(lái)設(shè)定所述處理區(qū)域。

6.一種拍攝處理方法，進(jìn)行通過(guò)對(duì)包含電子元件及各自的基準(zhǔn)標(biāo)記的多個(gè)低分辨率圖像進(jìn)行處理來(lái)生成所述電子元件的高分辨率圖像的超分辨率處理，所述拍攝處理方法的特征在于，

所述拍攝處理方法包括如下的步驟：

在不同的拍攝條件下拍攝用于取得所述基準(zhǔn)標(biāo)記的位置的標(biāo)記圖像和用于所述超分辨率處理的低分辨率圖像，其中，所述拍攝條件包括照明部的點(diǎn)亮位置、照明顏色、曝光時(shí)間及焦距中的一個(gè)以上；及

基于所述標(biāo)記圖像中包含的所述電子元件的圖像區(qū)域來(lái)設(shè)定作為所述超分辨率處理的對(duì)象的處理區(qū)域。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拍攝處理方法，其中，

在拍攝用于生成所述高分辨率圖像的低分辨率圖像之前拍攝所述標(biāo)記圖像，

與所述處理區(qū)域的設(shè)定并行地對(duì)用于所述超分辨率處理的低分辨率圖像進(jìn)行拍攝。