[發(fā)明專利]連續(xù)增材制造設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680076905.4
• 申請日: 2016-12-13
• 公開（公告）號: CN108472835B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 卡斯騰·弗蘭克;肯尼斯·L·史密斯;杰西·R·本克;羅伯特·L·W·史密森;盧卡斯·D·克雷斯蒂克;小奧萊斯特爾·本松;亞歷山大·J·赫夫曼
• 申請（專利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類號: B29C35/08
• 分類號: B29C35/08;B29C64/20;C09J7/20;B41M3/00
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 梁曉廣;車文

1.一種設(shè)備，包括：

光化輻射透明基材，所述光化輻射透明基材具有主表面；

照射源，所述照射源被構(gòu)造成在多于一個預(yù)定位置處以多于一種預(yù)定劑量引導(dǎo)光化輻射穿過所述光化輻射透明基材；

用于將組合物沉積到所述光化輻射透明基材的所述主表面上的裝置，其中所述基材呈圓筒形式，并且用于沉積的所述裝置包括使所述圓筒旋轉(zhuǎn)通過一定量的所述組合物以將所述組合物施加于所述基材上；以及

用于相對于彼此傳送所述光化輻射透明基材或所述照射源的裝置，

其特征在于，在所述多于一個預(yù)定位置處以所述多于一種預(yù)定劑量穿過所述光化輻射透明基材的所述光化輻射使沉積到所述光化輻射透明基材的所述主表面上的所述組合物在對應(yīng)于所述多于一個預(yù)定位置的位置處聚合，從而形成具有尺寸和形狀變化的粘合劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括被構(gòu)造成從所述基材除去組合物的氣刀。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述基材包括涂布在所述基材上的剝離材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括第二基材。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述第二基材包括結(jié)構(gòu)化片材。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括被構(gòu)造成從所述基材除去多種粘合劑的機(jī)器人。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述基材包括玻璃或聚合物材料。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述光化輻射透明基材包括選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亞胺、環(huán)烯烴膜、聚甲基丙烯酸甲酯或它們的組合的聚合物材料。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中所述光化輻射由具有燈的數(shù)字光投影儀、具有激光器的激光掃描裝置、具有背光的液晶顯示器面板或具有燈的光掩模提供。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中所述光化輻射由具有發(fā)光二極管的數(shù)字光投影儀或具有發(fā)光二極管的光掩模提供。

11.一種設(shè)備，包括：

輥，所述輥被構(gòu)造成支撐具有主表面的光化輻射透明基材；

照射源，所述照射源被構(gòu)造成在多于一個預(yù)定位置處以多于一種預(yù)定劑量引導(dǎo)光化輻射穿過所述光化輻射透明基材；

用于將組合物的池沉積到所述光化輻射透明基材的所述主表面上的裝置；

限定容納區(qū)域以保持所述組合物的池的至少一個輥；以及

用于相對于彼此傳送所述光化輻射透明基材或所述照射源的裝置，

其中所述多于一個預(yù)定位置位于所述容納區(qū)域中。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中用于沉積的所述裝置包括被構(gòu)造成用于分配所述組合物的池的容器。