[發明專利]帶犧牲電極的口腔護理裝置有效
| 申請號: | 201680076586.7 | 申請日: | 2016-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN108472115B | 公開(公告)日: | 2021-08-24 |
| 發明(設計)人: | 帕特里克·約翰松;杰爾拉德·貢塔爾茲 | 申請(專利權)人: | 高露潔-棕欖公司 |
| 主分類號: | A61C19/06 | 分類號: | A61C19/06;A46B15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 鄭斌;陳九洲 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 犧牲 電極 口腔 護理 裝置 | ||
1.一種口腔護理裝置,其包括:
外殼,所述外殼限定了腔體并且被配置用于至少部分地插入口腔中,所述外殼包括基部襯底;
所述外殼中的開口,所述開口將所述腔體流體連接至所述外殼的環境;
第一電極,所述第一電極設置在所述腔體中;
第二電極,所述第二電極設置在所述腔體中并且與所述第一電極間隔開;以及
電連接件,所述電連接件將所述第一電極和所述第二電極電連接至電源,
其中所述第一電極或所述第二電極中的至少一個是犧牲電極并且使電流流過所述電連接件導致所述犧牲電極放出離子;
其中所述基部襯底包括柔性襯底;并且
其中所述電源為柔性電源,所述電源附著到所述基部襯底。
2.根據權利要求1所述的口腔護理裝置,其中所述離子在所述腔體中被放出并且通過所述開口退出所述腔體。
3.根據權利要求1所述的口腔護理裝置,其中經由所述開口進入所述腔體中的流體充當所述離子釋放到其中的電解質。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔護理裝置,其還包括介于所述第一電極與所述第二電極之間的阻擋件。
5.根據權利要求1所述的口腔護理裝置,其還包括一對間隔開的第一柱和一對間隔開的第二柱,其中所述第一電極包括圍繞所述一對間隔開的第一柱纏繞的第一金屬線,并且所述第二電極包括圍繞所述一對間隔開的第二柱纏繞的第二金屬線。
6.根據權利要求5所述的口腔護理裝置,其中所述第一金屬線圍繞所述一對間隔開的第一柱以8字形纏繞,并且所述第二金屬線圍繞所述一對間隔開的第二柱以8字形纏繞。
7.根據權利要求1所述的口腔護理裝置,其中所述外殼包括所述基部襯底和覆蓋物,并且所述腔體包括在所述基部襯底與所述覆蓋物之間的空間。
8.根據權利要求7所述的口腔護理裝置,其中所述開口被形成為以下情況中的至少一種:穿過所述基部襯底或所述覆蓋物、或者在所述基部襯底與所述覆蓋物之間。
9.根據權利要求1所述的口腔護理裝置,其中所述外殼包括牙刷的頭部。
10.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔護理裝置,其中所述第一電極和所述第二電極中的每一個包括金屬線或金屬板。
11.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔護理裝置,其中所述犧牲電極包含鋅。
12.根據權利要求11所述的口腔護理裝置,其中所述犧牲電極包含95%或更多的鋅。
13.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔護理裝置,其中所述第一電極和所述第二電極包括第一電極對并且還包括至少一個附加電極對。
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