[發明專利]試樣分析用基板、試樣分析裝置、試樣分析系統和記錄介質

有效

• 申請號: 201680075560.0
• 申請日: 2016-12-22
• 公開（公告）號: CN108431609B
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 岡本房俊;城野政博
• 申請（專利權）人: 普和希控股公司
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00;G01N35/08;G01N37/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 段承恩;楊光軍

1.一種試樣分析用基板，是通過旋轉運動進行液體的移送的試樣分析用基板，具備基板、第1保持室、第2保持室、主室、第1流路和第2流路，

所述基板具有旋轉軸，

所述第1保持室位于所述基板內，具有用于保持第1液體的第1空間，

所述第2保持室位于所述基板內，具有用于保持從所述第1保持室排出的所述第1液體的第2空間，

所述主室位于所述基板內，具有用于保持從所述第2保持室排出的所述第1液體的第3空間，

所述第1流路位于所述基板內，具有第1開口和第2開口，所述第1開口和所述第2開口分別與所述第1保持室和所述第2保持室連接，

所述第2流路位于所述基板內，具有第3開口和第4開口，所述第3開口和所述第4開口分別與所述第2保持室和所述主室連接，

所述第1保持室具有比連接所述第1開口的位置遠離所述旋轉軸的部分，

所述第2保持室具有比連接所述第2開口的位置遠離所述旋轉軸的部分，

在所述第2流路中，所述第3開口比所述第4開口接近所述旋轉軸，

所述第1保持室和所述第2流路在所述基板的半徑方向上排列，所述第2流路比所述第1保持室遠離所述旋轉軸，

所述第2保持室包含：在所述基板的圓周方向上與所述第1保持室相鄰的第1部分、和在所述基板的圓周方向上與所述第2流路相鄰的第2部分。

2.根據權利要求1所述的試樣分析用基板，

所述第2流路是毛細管道。

3.根據權利要求2所述的試樣分析用基板，

所述第2保持室具有距離所述旋轉軸最遠的最外周側面、和與所述最外周側面相鄰的相鄰側面，

所述第2流路的所述第3開口位于所述最外周側面或所述相鄰側面。

4.根據權利要求3所述的試樣分析用基板，

所述第3開口位于所述相鄰側面，

所述第2保持室具有將所述最外周側面與所述第3開口位于的部分連接的毛細管腔。

5.根據權利要求4所述的試樣分析用基板，

所述毛細管腔沿著所述相鄰側面設置。

6.根據權利要求1所述的試樣分析用基板，

所述第2流路是利用重力使所述第1液體移動的流路。

7.根據權利要求6所述的試樣分析用基板，

所述第2保持室具有距離所述旋轉軸最遠的最外周側面、和與所述最外周側面相鄰的相鄰側面，

所述第2流路的第3開口位于所述相鄰側面。

8.根據權利要求7所述的試樣分析用基板，

在所述第2保持室的所述相鄰側面，所述第2流路的第3開口位于離開所述最外周側面的位置。

9.根據權利要求1～8的任一項所述的試樣分析用基板，

所述第1保持室具有在所述基板的半徑方向上不重疊的第1外周側面和第2外周側面，所述第1外周側面比所述第2外周側面遠離所述旋轉軸。

10.根據權利要求1～8的任一項所述的試樣分析用基板，還具備接近所述主室而配置的磁石。

11.根據權利要求10所述的試樣分析用基板，

所述磁石接近所述主室的側面之中距離所述旋轉軸最遠的最外周側面而配置。

12.根據權利要求1～8的任一項所述的試樣分析用基板，還具備回收室和第3流路，

所述回收室位于所述基板內，比所述主室遠離所述旋轉軸，

所述第3流路位于所述基板內，在兩端具有開口，兩端的開口分別與所述主室和所述回收室連接。