[發(fā)明專利]信息顯示設(shè)備和信息顯示方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680075117.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108463996A | 公開(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 重山武藏;尾崎健司;加藤貴來 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝;東芝能源系統(tǒng)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H04N5/64 | 分類號(hào): | H04N5/64;G02B27/02;G09F9/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 面罩 全臉 信息顯示設(shè)備 佩戴 圖像生成單元 光學(xué)單元 框架單元 圖像信號(hào) 信息顯示 圖像光 下框架 使用者視覺 保護(hù)裝備 中間框架 按壓力 鼻背部 反射板 內(nèi)表面 上框架 瞳孔 移位 投影 圖像 配備 移動(dòng) 覆蓋 配置 | ||
1.一種信息顯示設(shè)備,包括:
框架單元,具備:能夠在全臉面罩的內(nèi)部移位的第一框架;以及通過使用者佩戴所述全臉面罩時(shí)由所述第一框架的位移產(chǎn)生的按壓力而定位在所述全臉面罩的內(nèi)部的第二框架;以及
光學(xué)單元,附接到所述框架單元,并且能顯示與由所述使用者視覺識(shí)別的圖像的圖像信號(hào)相對(duì)應(yīng)的圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息顯示設(shè)備,
還包括附接到所述框架單元并生成所述圖像信號(hào)的圖像生成單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息顯示設(shè)備,
所述光學(xué)單元構(gòu)成為能夠在與所述使用者的前后方向相對(duì)應(yīng)的方向、與所述使用者的左右方向相對(duì)應(yīng)的方向以及與所述使用者的上下方向相對(duì)應(yīng)的方向中的至少一個(gè)方向上進(jìn)行位置調(diào)節(jié)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息顯示設(shè)備,
還包括附接到所述框架單元并且對(duì)所述全臉面罩外部的對(duì)象物進(jìn)行攝像的相機(jī)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息顯示設(shè)備,
還包括附接到所述框架單元的麥克風(fēng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的信息顯示設(shè)備,
還包括信息終端,所述信息終端連接到所述圖像生成單元并構(gòu)成為能傳輸與由所述使用者視覺識(shí)別的所述圖像相對(duì)應(yīng)的信號(hào)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的信息顯示設(shè)備,
所述信息終端包括位置測(cè)量單元,所述位置測(cè)量單元測(cè)量所述信息終端的三維位置信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的信息顯示設(shè)備,
所述信息終端包括:
顯示條件指定單元,接收對(duì)于由所述使用者視覺識(shí)別的所述圖像的顯示條件的設(shè)定,并判定所設(shè)定的顯示條件是否成立;以及
控制單元,所述顯示條件指定單元判定為所設(shè)定的所述顯示條件成立時(shí),允許所述圖像生成單元生成所述圖像信號(hào),所述顯示條件指定單元判定為所設(shè)定的所述顯示條件不成立時(shí),禁止所述圖像生成單元生成所述圖像信號(hào)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的信息顯示設(shè)備,
所述信息終端包括以能在所述信息終端與其他單元之間傳輸信息的方式連接到所述其他單元的接口單元。
10.一種信息顯示方法,包括如下工序:
將附接有光學(xué)單元的框架單元配置在全臉面罩內(nèi),所述光學(xué)單元能夠以由使用者視覺識(shí)別與圖像的圖像信號(hào)相對(duì)應(yīng)的圖像的方式,顯示所述圖像;
通過將所述全臉面罩佩戴于所述使用者,將所述框架單元定位在所述全臉面罩內(nèi);以及
在所述使用者佩戴所述全臉面罩的狀態(tài)下,使所述光學(xué)單元顯示由所述使用者視覺識(shí)別的所述圖像。
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