[發(fā)明專利]過氧化氫生成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680074711.0
• 申請日: 2016-09-20
• 公開（公告）號: CN108474123B
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 出健志;村山清一;志村尚彥;阿部法光
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社東芝;東芝基礎(chǔ)設(shè)施系統(tǒng)株式會社
• 主分類號: C25B1/30
• 分類號: C25B1/30;C25B9/00;C25B11/12;C25B15/08
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周欣

1.一種過氧化氫生成裝置，其具備：

電解槽，其容納電解液，

一對電極，其被設(shè)置于所述電解槽中，且對所述電解液進行電解，

循環(huán)配管，其與所述電解槽連接，使從所述電解槽中被電解的所述電解液中生成的氧流向所述電解槽，

貯存部，所述貯存部被設(shè)置于所述循環(huán)配管的中途部，貯存與所述氧一起流動的所述電解液，

連接于所述貯存部的上部的排氣配管，和

設(shè)置于所述排氣配管的中途部的閥，

所述貯存部中，所述電解液中溶存的氮通過所述氧的氣泡的溶解而被排出，被排出的氮與沒有溶解于所述電解液中的氧變成所述貯存部的上部的氣層，

所述閥以維持所述電解液的循環(huán)壓力在大氣壓以上的方式一邊調(diào)整排氣量，一邊通過所述排氣配管將所述氣層的一部分排出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的過氧化氫生成裝置，其中，具備循環(huán)構(gòu)件，所述循環(huán)構(gòu)件被設(shè)置于所述循環(huán)配管的中途部，將所述循環(huán)配管中流動的所述氧加壓而流向所述電解槽。

3.一種過氧化氫生成裝置，其具備：

電解槽，其容納電解液，

一對電極，其被設(shè)置于所述電解槽中，且對所述電解液進行電解，

循環(huán)配管，其與所述電解槽連接，使從所述電解槽中被電解的所述電解液中生成的氧流向所述電解槽，

氣液分離部，其被設(shè)置于所述循環(huán)配管的中途部，將電解后的所述電解液與所述氧一起容納，并分離成包含所述氧的氣層和液相，

循環(huán)構(gòu)件，其被設(shè)置于所述循環(huán)配管的中途部，將包含所述氧的所述氣層進行加壓而流向所述電解槽，

分支配管，其從所述循環(huán)配管的中途部分支，將所述氣液分離部的所述氣層進行排氣，和

閥，其被設(shè)置于所述分支配管的中途部，

所述閥以將所述電解液的循環(huán)壓力維持在大氣壓以上的方式一邊調(diào)整排氣量，一邊介由所述分支配管將所述電解液中的溶存氮從所述氣液分離部的所述氣層中排出。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的過氧化氫生成裝置，其中，具備向所述電解槽以大氣壓以上的壓力供給所述電解液的供給部。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的過氧化氫生成裝置，其中，具備：

排出配管，其將電解后的所述電解液排出，和

壓力調(diào)整部，其被設(shè)置于所述排出配管的中途部，調(diào)整所排出的所述電解液的壓力。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的過氧化氫生成裝置，其中，所述一對電極包含碳，為相同形狀。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的過氧化氫生成裝置，其中，所述一對電極能夠顛倒極性地與直流電源連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的過氧化氫生成裝置，其中，具備使介由所述循環(huán)配管流向所述電解槽的所述氧發(fā)生擴散的擴散構(gòu)件。