[發(fā)明專利]定量磁化率映射磁共振圖像的分割有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680074046.5 | 申請日: | 2016-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN108431624B | 公開(公告)日: | 2021-05-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | J·J·邁內克;U·卡切爾 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/055 | 分類號: | A61B5/055 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光穎;王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定量 磁化率 映射 磁共振 圖像 分割 | ||
本發(fā)明提供一種醫(yī)學成像系統(tǒng)(100、400),包括:用于存儲機器可執(zhí)行指令的存儲器(112)和用于控制醫(yī)學成像系統(tǒng)的處理器(106)。機器可執(zhí)行指令的執(zhí)行使處理器:從感興趣區(qū)域(409)的初級磁共振圖像(122)接收(200)初級分割(124),其中,所述初級分割包括初級分割邊緣;根據(jù)QSM磁共振數(shù)據(jù)(122)重建(202)針對所述感興趣區(qū)域的第一QSM圖像(124),其中,所述QSM圖像的重建至少部分地使用正則化函數(shù)來執(zhí)行,其中,所述正則化函數(shù)取決于在所述第一QSM圖像的重建期間的初級分割邊緣;通過使用QSM圖像分割算法(134)分割所述第一QSM圖像來計算(204)第一分割(126),其中,所述第一分割包括第一分割邊緣;以及,根據(jù)所述QSM磁共振數(shù)據(jù)重建(206)針對所述感興趣區(qū)域的第二QSM圖像(128),其中,所述第二QSM圖像的重建至少部分地使用正則化函數(shù)來執(zhí)行,其中,所述正則化函數(shù)取決于所述第一分割邊緣。
技術領域
本發(fā)明涉及磁共振成像,具體地涉及定量磁化率映射。
背景技術
定量磁化率映射(QSM)是一種磁共振成像技術,其中,體素強度與潛在的組織表觀磁性磁化率成線性比例關系。這對于識別引起磁性磁化率中局部變化的某些生物標記物或例如釓的造影劑可以是有用的。根據(jù)梯度回波磁共振相位圖像計算體內組織的體磁性磁化率分布。這些圖像可以在顯示腦部中的白質和灰質之間的解剖對比度時特別有用。
期刊文章Tang等人的“Improving Susceptibility Mapping Using aThreshold-Based K-Space/Image Domain Iterative Reconstruction Approach,”(Magnetic Resonance in Medicine 69:1396-1407(2013))描述了一種通過使用來自磁化率圖本身的幾何信息作為約束來改善磁共振成像定性磁化率圖的方法,以克服逆濾波器的不適定性質。該文章示出了將這種方法應用于具有較低磁化率的血管和其他結構,以減少條紋偽影。
會議摘要Meineke的“Quantitative Susceptibility Mapping usingSegmentation-Enabled Dipole Inversion”(Proc,第二十三卷ISMRM,第3321頁(2015))(本文中為“Meineke等人”)公開了一種QSM重建,其使用二進制圖來定義組織邊界邊緣,以改善基于梯度的邊緣檢測。美國專利申請US 2015/0338492涉及定量磁化率映射(QSM),其中,在L1-范數(shù)正則化中采用邊緣信息來計算磁性磁化率圖像。邊緣信息通過邊緣掩碼的方式來計算。
發(fā)明內容
本發(fā)明在獨立權利要求中提供醫(yī)學成像系統(tǒng)、計算機程序產(chǎn)品和方法。實施例在從屬權利要求中給出。
如本領域普通技術人員將認識到的,本發(fā)明的各方面可以體現(xiàn)為裝置、方法或計算機程序產(chǎn)品。因此,本發(fā)明的各個方面可以采取全部硬件實施例、全部軟件實施例(包括固件、常駐軟件、微代碼等)或組合軟件和硬件各方面的實施例的形式,這些實施例可以全部總體上在本文中被稱為“電路”、“模塊”或“系統(tǒng)”。此外,本發(fā)明的各方面可以采取體現(xiàn)在一個或多個具有體現(xiàn)在其上的計算機可執(zhí)行代碼的計算機可讀介質中的計算機程序產(chǎn)品的形式。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于皇家飛利浦有限公司,未經(jīng)皇家飛利浦有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680074046.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





