[發明專利]針對其化妝用途的間苯二酚衍生物有效
| 申請號： | 201680073090.4 | 申請日： | 2016-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN108368026B | 公開（公告）日： | 2021-10-22 |
| 發明（設計）人： | X.馬拉;A.蓋吉尼亞 | 申請（專利權）人： | 萊雅公司 |
| 主分類號： | C07C69/157 | 分類號： | C07C69/157;C07C39/08;A61Q19/02 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 段家榮;黃念 |
| 地址： | 法國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 針對 化妝 用途 間苯二酚 衍生物 | ||
【權利要求書】：
1.具有下式 (I) 的化合物：
其中：
R1和R2，相同或不同，表示：
a) 氫，
b) 基團COR5，其中R5表示直鏈C1-C6或支鏈C3-C6烷基基團，
R3表示直鏈C1-C4烷基基團，
R4表示
a) H，
c) 基團COR5，其中R5表示直鏈C1-C6或支鏈C3-C6烷基基團，
以及其鹽，單獨或作為混合物。
2.如權利要求1所述的具有式 (I) 的化合物，其特征在于R5表示直鏈C1-C4烷基基團。
3.如權利要求1或2中任一項所述的具有式 (I) 的化合物，其特征在于：
R1和R2，相同或不同，表示H或COCH3基團，
R3表示甲基、乙基或異丙基，并且
R4表示H或COCH3基團，
以及其鹽，單獨或作為混合物。
4.如權利要求1或2中的任一項所述的具有式 (I) 的化合物，其特征在于：
R1和R2，相同或不同，表示H或COCH3基團，
R3表示甲基，并且
R4表示H或COCH3基團，
以及其鹽。
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