[發明專利]用于制作安全文件的方法

在審

• 申請號: 201680072815.8
• 申請日: 2016-12-14
• 公開（公告）號: CN108367585A
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: 卡洛·約利克;加里·費爾利斯·鮑爾
• 申請（專利權）人: CCL證券私人有限公司
• 主分類號: B42D25/30
• 分類號: B42D25/30;G02B3/00;G06K9/00;G02B27/22
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 梁麗超;田喜慶

1.一種用于制作第一安全文件的方法，所述安全文件包括：

透明基底；

第一圖像元件周期陣列，所述第一圖像元件周期陣列被應用至所述基底的第一表面且在第一方向上延伸；以及

第一顯露元件周期陣列，所述第一顯露元件周期陣列被應用至所述基底的相對表面且在第二方向上延伸，所述第一顯露元件周期陣列與所述第一圖像元件周期陣列疊加，使得可以在至少第一視角與第二視角之間觀察到光學可變效果，

所述方法包括如下步驟：

a.確定莫爾帶的一個或多個特性，由于所述第一方向與所述第二方向不同，所以在所述安全文件相對于觀察者在至少所述第一視角與所述第二視角之間移動期間，所述莫爾帶能夠或者會被觀察到過渡越過所述第一圖像元件周期陣列；

b.將所述第一圖像元件周期陣列和/或所述第一顯露元件周期陣列的至少一個維度約束為小于所述莫爾帶中的至少一個的寬度；以及

c.使得如在步驟(b)中陳述的那樣被約束的所述第一圖像元件周期陣列和所述第一顯露元件周期陣列被制作作為所述安全文件的一部分。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，莫爾帶的所述一個或多個特性是通過如下方式在步驟a中被確定：

制作包括第二顯露元件周期陣列和第二圖像元件周期陣列的校準安全文件，所述第二顯露元件周期陣列和所述第二圖像元件周期陣列與所述第一圖像元件周期陣列和所述第二圖像元件周期陣列相同，只是其在充足區上延伸以便能夠在所述安全文件的所述移動期間觀察到莫爾帶過渡越過所述圖像元件；以及

測量所觀察到的莫爾帶的所述一個或多個特性。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，莫爾帶的所述一個或多個特性是通過如下方式在步驟a中被確定：

確定可能在制作所述第一安全文件期間由一個或多個制作步驟引入的在所述第一圖像元件周期陣列與所述第一顯露元件周期陣列之間的最大偏斜；以及

從所述最大偏斜來推導莫爾帶的所述一個或多個特性。

4.根據權利要求2或者3中任一項所述的方法，其中，莫爾帶的所述一個或多個特性包括如下任何一個或多個：

表示最小莫爾帶的寬度的莫爾周期或者其它值；以及

表示所述莫爾帶從所述第一方向的角度偏移的特性的莫爾角。

5.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中：

所述顯露元件周期陣列顯露來自所述第一視角的第一圖像通道和來自所述第二視角的第二圖像通道；并且

所述或者每個圖像元件周期陣列包括形成能夠在所述第一圖像通道中看到的第一圖像的第一組圖像元件。

6.根據權利要求5所述的方法，其中：

所述或者每個圖像元件周期陣列進一步包括形成能夠在所述第二圖像通道中看到的第二圖像的第二組圖像元件。

7.根據權利要求5或者6中任一項所述的方法，其中：

所述第一顯露元件周期陣列顯露來自第三視角的第三圖像通道；并且

所述或者每個圖像元件周期陣列包括形成能夠在所述第三圖像通道中看到的第三圖像的第三組圖像元件。

8.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中：

所述顯露元件是用于放大所述圖像元件的透鏡元件。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的方法，其中：

所述顯露元件是線。