[發明專利]氖氣回收/凈化系統和氖氣回收/凈化方法

有效

• 申請號: 201680072728.2
• 申請日: 2016-09-13
• 公開（公告）號: CN108367923B
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發明（設計）人: 鈴木清香;小浦輝政;野澤史和
• 申請（專利權）人: 喬治洛德方法研究和開發液化空氣有限公司
• 主分類號: C01B23/00
• 分類號: C01B23/00;F25J3/08
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 吳鵬;馬江立

1.一種用于從制造系統所排出的排放氣體中回收并凈化氖氣的氖氣回收/凈化系統，該制造系統包括：供應管線，該供應管線供應處于第一壓力的至少含有氖氣與第一惰性氣體的混合惰性氣體；使用該混合惰性氣體的激光設備；以及排放管線，該排放管線至少排出從該激光設備排出的處于第二壓力的排放氣體，該第二壓力等于或大于大氣壓、并且等于或小于該第一壓力，該氖氣回收/凈化系統包括：

-回收器皿，該回收器皿被安排在排放氣體路徑上并且儲存該排放氣體，該排放氣體路徑從該排放管線分支并延伸；

-壓縮機，該壓縮機被安排在該回收器皿的排放氣體路徑下游側、并且將從該回收器皿送出的排放氣體的壓力升高至第三壓力；

-排放氣體流量調節單元，該排放氣體流量調節單元被安排在該壓縮機的排放氣體路徑下游側、并且調節被送到該排放氣體路徑下游側且已經被該壓縮機升高壓力的排放氣體的流量；

-第一雜質去除單元，該第一雜質去除單元被安排在該排放氣體流量調節單元的排放氣體路徑下游側、并且從該排放氣體中去除氧氣；

-第二雜質去除單元，該第二雜質去除單元被安排在該第一雜質去除單元的排放氣體路徑下游側、并且從已經被去除了該氧氣的排放氣體中去除第二雜質，該第二雜質是氮氣、一氧化碳、二氧化碳、水以及CF4；

-升壓器皿，該升壓器皿被安排在該第二雜質去除單元的經凈化氣體路徑下游側、并且儲存已經被該第一雜質去除單元和該第二雜質去除單元處理過的經凈化氣體，所述經凈化氣體含有氖氣和第一惰性氣體；

-減壓裝置，該減壓裝置被安排在該升壓器皿的經凈化氣體路徑下游側、并且將從該升壓器皿送出的經凈化氣體的壓力減小至該第一壓力；以及

-經凈化氣體流量調節單元，該經凈化氣體流量調節單元被安排在該減壓裝置的經凈化氣體路徑下游側、并且調節被供應至該制造系統的該供應管線的經凈化氣體的流量；

其中，該第一雜質去除單元和該第二雜質去除單元根據排放氣體的雜質含量進行安排，并且用于去除較高含量的雜質的雜質去除單元被安排在前一級中。

2.一種用于從制造系統所排出的排放氣體中回收并凈化氖氣的氖氣回收/凈化系統，該制造系統包括：供應管線，該供應管線供應處于第一壓力的至少含有氖氣與第一惰性氣體的混合惰性氣體；使用該混合惰性氣體的激光設備；以及排放管線，該排放管線至少排出從該激光設備排出的處于第二壓力的排放氣體，該第二壓力等于或大于大氣壓、并且等于或小于該第一壓力，該氖氣回收/凈化系統包括：

-回收器皿，該回收器皿被安排在排放氣體路徑上并且儲存該排放氣體，該排放氣體路徑從該排放管線分支并延伸；

-壓縮機，該壓縮機被安排在該回收器皿的排放氣體路徑下游側、并且將從該回收器皿送出的排放氣體的壓力升高至第三壓力；

-升壓器皿，該升壓器皿被安排在該壓縮機的排放氣體路徑下游側、并且儲存已經被該壓縮機升高壓力的排放氣體；

-排放氣體流量調節單元，該排放氣體流量調節單元被安排在該升壓器皿的排放氣體路徑下游側、并且調節被送至該排放氣體路徑下游側的排放氣體的流量；

-第一雜質去除單元，該第一雜質去除單元被安排在該排放氣體流量調節單元的排放氣體路徑下游側、并且從該排放氣體中去除氧氣；

-第二雜質去除單元，該第二雜質去除單元被安排在該第一雜質去除單元的排放氣體路徑下游側、并且從已經被去除了該氧氣的排放氣體中去除第二雜質，所述第二雜質是氮氣、一氧化碳、二氧化碳、水以及CF4；

-減壓裝置，該減壓裝置被安排在該第二雜質去除單元的經凈化氣體路徑下游側、并且將從該第二雜質去除單元送出的經凈化氣體的壓力減小至該第一壓力，所述經凈化氣體含有氖氣和第一惰性氣體；以及

-經凈化氣體流量調節單元，該經凈化氣體流量調節單元被安排在該減壓裝置的經凈化氣體路徑下游側、并且調節被供應至該制造系統的該供應管線的經凈化氣體的流量；

其中，該第一雜質去除單元和該第二雜質去除單元根據排放氣體的雜質含量進行安排，并且用于去除較高含量的雜質的雜質去除單元被安排在前一級中。

3.根據權利要求1或2所述的氖氣回收/凈化系統，進一步包括通氣路徑，該通氣路徑是用于將從該第二雜質去除單元送出的經凈化氣體排出至大氣中的路徑。

4.根據權利要求1或2所述的氖氣回收/凈化系統，其中，該第一惰性氣體是氪氣(Kr)。