[發明專利]可調諧波長電子光學分析器

在審

• 申請號: 201680072479.7
• 申請日: 2016-11-30
• 公開（公告）號: CN108369255A
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: U·金德利特;V·布魯斯
• 申請（專利權）人: 高通股份有限公司
• 主分類號: G01R31/311
• 分類號: G01R31/311;G01R31/265;G01R31/308
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳小剛;陳煒

1.一種電子光學分析系統，包括：

波長可調諧激光器，其被配置成對調諧控制信號作出響應以生成具有響應于所述調諧控制信號來調整的波長的激光；

信號發生器，其被配置成使用測試向量信號來刺激集成電路；以及

檢測器，其被配置成在所述集成電路由所述測試向量信號刺激的同時檢測來自所述波長可調諧激光器的由所述集成電路反射的激光。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，進一步包括：

配置成生成所述調諧控制信號的調諧控制器。

3.如權利要求2所述的系統，其特征在于，進一步包括：

信號質量分析器，其被配置成根據與所述波長可調諧激光器所生成的波長相對應的檢測到的激光來生成信號質量。

4.如權利要求3所述的系統，其特征在于，進一步包括：

比較器，其被配置成：

將從所述信號質量分析器接收到的多個信號質量相比較，每一信號質量對應于不同波長；

選擇與最高信號質量相對應的波長；以及

將標識所述波長的信息傳送給所述調諧控制器。

5.如權利要求4所述的系統，其特征在于，所述比較器被進一步配置成在接收到與預定波長范圍相對應的信號質量之后將所述多個信號質量彼此相比較。

6.如權利要求4所述的系統，其特征在于，所述比較器被進一步配置成將所述多個信號質量中的每一者與閾值信號質量相比較。

7.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述波長可調諧激光器包括至少兩個激光器，每一激光器專用于對應的波長范圍。

8.如權利要求1所述的系統，其特征在于，進一步包括配置成分析來自所述檢測器的檢測到的信號的RF分量的頻譜分析器。

9.一種方法，包括：

使用調諧到第一波長的波長可調諧激光器照射集成電路，同時使用測試向量信號刺激所述集成電路，以便所述集成電路在所述第一波長處調制激光照射的第一反射；

確定所述第一反射的信號質量；

調諧所述波長可調諧激光器以使用第二波長的激光照射所述集成電路，同時使用所述測試向量信號刺激所述集成電路，以便所述集成電路在所述第二波長處調制所述激光的第二反射；以及

確定所述第二反射的信號質量。

10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，進一步包括：

將所述第一反射和所述第二反射的信號質量相比較；以及

選擇與較高信號質量相對應的波長。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于，進一步包括：

將所述波長可調諧激光器調諧到具有所選信號質量的波長；以及

對所述集成電路執行電子光學分析操作。

12.如權利要求9所述的方法，其特征在于，進一步包括：

使用調諧到多個波長中的每一者的所述波長可調諧激光器順序地照射集成電路，同時使用所述測試向量信號刺激所述集成電路，以便所述集成電路在所述多個波長中的每一者處調制激光照射的多個反射；以及

確定所述多個反射中的每一者的信號質量。

13.如權利要求12所述的方法，其特征在于，進一步包括：

將所述信號質量中的每一者順序地與閾值信號質量相比較；以及

選擇滿足或超過所述閾值信號質量的波長。

14.如權利要求12所述的方法，其特征在于，進一步包括：

將所述多個信號質量中的每一者彼此相比較；以及

選擇具有最高信號質量的波長。