[發(fā)明專利]用于產(chǎn)生常壓等離子體束的裝置和處理工件表面的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680071660.6
• 申請日: 2016-12-05
• 公開（公告）號: CN108370639B
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 克里斯蒂安·布斯克;斯特凡·克尼佩爾
• 申請（專利權(quán)）人: 等離子體處理有限公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34;H05H1/44
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 張凱;張杰

1.用于產(chǎn)生處理工件表面的常壓等離子體束的裝置，所述裝置具有

-管狀殼體(10)，所述殼體具有軸(A)；

-安置在所述殼體(10)內(nèi)部的內(nèi)部電極(24)；

-擁有噴嘴開口(18)的噴嘴結(jié)構(gòu)(30)，所述噴嘴結(jié)構(gòu)用于將殼體(10)中待產(chǎn)生的等離子體束釋放，

-其中所述噴嘴開口(18)方向的走向與軸(A)呈角度并且

-其中所述噴嘴結(jié)構(gòu)(30)能夠圍繞所述軸(A)相對旋轉(zhuǎn)，

其特征在于，

-阻隔件(40)包圍噴嘴結(jié)構(gòu)(30)，

-所述阻隔件(40)設(shè)置用于根據(jù)所述噴嘴結(jié)構(gòu)(30)相對于所述軸(A)的旋轉(zhuǎn)角度來改變待產(chǎn)生的等離子體束和工件表面相互作用的強(qiáng)度，并且

-所述阻隔件(40；46,48)的軸向長度在方位角方向上變化，或者所述阻隔件(40)的內(nèi)表面(42)至少在其遠(yuǎn)端邊緣(52)區(qū)域內(nèi)具有相對于軸(A)、在方位角方向上變化的角度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，

其特征在于，

所述阻隔件(40)在方位角方向上僅在部分區(qū)段上形成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，

其特征在于，

所述阻隔件(40)在方位角方向上相對于軸(A)對稱地形成在兩個部分區(qū)段上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，

其特征在于，

所述阻隔件(40；46,48)長度的變化呈階級式或連續(xù)地進(jìn)行。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，

其特征在于，

所述阻隔件(40；46,48)長度的變化以正弦函數(shù)的形式進(jìn)行。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，

其特征在于，

所述阻隔件(40)形成為其位置能夠相對于噴嘴結(jié)構(gòu)(30)調(diào)整。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，

其特征在于，

所述阻隔件(40)形成為其位置能夠相對于噴嘴結(jié)構(gòu)(30)在軸(A)方向和/或在徑向上調(diào)整。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，

其特征在于，

所述阻隔件(40)具有至少兩個阻隔件元件(40a，40b)，所述阻隔件元件形成為能夠彼此獨(dú)立調(diào)節(jié)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，

其特征在于，

設(shè)置有用于加熱所述阻隔件(40)的加熱裝置(60)。

10.用于處理工件表面的方法，

-在所述方法中，借助于根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置產(chǎn)生圍繞軸(A)旋轉(zhuǎn)的等離子體束，

-在所述方法中，所述裝置以旋轉(zhuǎn)的等離子體束沿著待處理的表面移動并且

-在所述方法中借助于阻隔件，根據(jù)噴嘴相對于軸(A)的旋轉(zhuǎn)角度來改變等離子體束和工件表面相互作用的強(qiáng)度。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，

在所述方法中，所述阻隔件沿運(yùn)動方向?qū)πD(zhuǎn)著的等離子體束進(jìn)行的阻隔比在運(yùn)動方向橫向上更強(qiáng)烈。