[發明專利]光罩架系統

在審

• 申請號: 201680071391.3
• 申請日: 2016-12-07
• 公開（公告）號: CN108369370A
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: S·庫德爾;A·埃斯坎東;S·里德;G·埃爾南德斯;R·艾里什;J·瓦萊斯汀
• 申請（專利權）人: 密克羅奇普技術公司
• 主分類號: G03F1/66
• 分類號: G03F1/66;G03F7/20
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 沈錦華

本發明涉及半導體制造，特定來說涉及光罩架系統。本發明的教示可體現在光罩架單元中，所述光罩架單元包含具有四個立柱及多個縱橫桿的框架以及四個旋轉門架。所述框架可具有界定前側及后側的最長尺寸。所述四個旋轉門架可安裝到所述框架以圍繞平行于所述四個立柱的相應旋轉軸樞轉。每一旋轉門架可界定經定大小以固持光罩的多個光罩嵌套。

相關申請案的交叉參考

本申請案主張2015年12月7日申請的共同擁有的第62/264,098號美國臨時專利申請案的優先權，所述案出于所有目的而特此以引用的方式并入本文中。

技術領域

本發明涉及半導體制造，特定來說涉及光罩架系統。

背景技術

光刻(有時稱為光學光刻或UV光刻)是一種在半導體或集成電路(IC)制造中用以圖案化薄膜或襯底的工藝。光刻光掩模通常是覆蓋有由光吸收或反射薄膜界定的圖案的透明熔硅石胚料。將各自界定圖案層的一組光掩模饋送到光刻步進器或掃描儀中，且個別地選定用于曝光的光掩模。光通過光掩模且通常命中光掩模的圖案中的襯底上的光致抗蝕劑層。各種化學處理可用以移除光致抗蝕劑的曝光部分(或負光致抗蝕劑中的未曝光部分)。當將光刻用于IC裝置的大量生產時，光掩模的典型術語是光罩(photoreticle或reticle)。一些IC裝置的制造可需要使用不同光罩曝光50次以上。

發明內容

IC制造廠可采用各需要多個光罩的多個工藝。隨著廠的產品線或工藝的數目增長，存儲許多光罩變成一種挑戰。本發明的教示可體現在減少存儲盡可能多的光罩所需的占用面積的光罩存儲架。

本發明的一些實施例可包含光罩架。所述光罩架可包括具有四個立柱及多個縱橫桿的框架以及四個旋轉門架。所述框架可具有界定前側及后側的最長尺寸。所述四個旋轉門架可安裝到所述框架以圍繞平行于所述四個立柱的相應旋轉軸樞轉。每一旋轉門架可界定經定大小以固持光罩的多個光罩嵌套(nest)。

在一些實施例中，每一旋轉門架包括四個狹槽堆疊，每一堆疊包含28個狹槽。

在一些實施例中，所述多個光罩嵌套包括448個光罩嵌套。

在一些實施例中，每一旋轉門架包括矩形塔。

在一些實施例中，每一旋轉門架包括矩形塔，其包含四個光罩嵌套堆疊，且其中僅當相應堆疊面向所述框架的所述前側時可從堆疊移除光罩。

一些實施例可包含：兩個靜電發射器；及兩個風扇過濾單元，其保護存儲在所述光罩架單元中的任何光罩免受所述光罩架單元周圍的空氣中的顆粒影響。

一些實施例可包含：四個制動器，每一制動器與一個旋轉門架相關聯；及電子控制器，其在任何時間僅允許一個制動器脫離。

一些實施例可包含四個超控開關(override switch)，每一開關與一個旋轉門架相關聯且可操作以超控所述電子控制器并允許所述相關聯的旋轉門架轉動。

一些實施例可包含一組視覺信號，其指示每一制動器是接合還是脫離。

一些實施例可包含：手持掃描槍，其用于讀取更換于所述光罩架單元的光罩嵌套中或從所述光罩架單元的光罩嵌套移除的光罩上的標簽；及監測器，其顯示從所述標簽讀取的標識碼。

一些實施例可包含一種用于將光罩存儲在半導體廠中的光罩架單元的系統，所述系統包含多個光罩架單元，每一光罩架單元包括：具有四個立柱及多個縱橫桿的框架，所述框架具有界定前側及后側的最長尺寸；及四個旋轉門架，所述四個旋轉門架安裝到所述框架以圍繞平行于所述四個立柱的相應旋轉軸樞轉。每一旋轉門架可界定經定大小以固持光罩的多個光罩嵌套。

在一些實施例中，每一旋轉門架包括四個狹槽堆疊，每一堆疊包含28個狹槽。