[發明專利]偏振膜的制造方法

有效

• 申請號: 201680071253.5
• 申請日: 2016-12-02
• 公開（公告）號: CN108292006B
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 古谷勉;北河佑介;田中陽祐
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;B29C55/12;B29K29/00;B29L7/00;B29L11/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 曹陽

本發明提供一種制造偏振膜的方法，該偏振膜盡管硼含量受到抑制，收縮力被降低，然而仍然具有高的光學特性。本發明的偏振膜的制造方法是由聚乙烯醇系樹脂膜制造硼含有率為1.5～3.0重量％的偏振膜的方法，該方法包括：染色工序，將聚乙烯醇系樹脂膜用二色性色素染色；交聯工序，將染色工序后的膜用至少包含硼酸的交聯劑進行處理；第一拉伸工序，在所述交聯工序中和/或其之前，對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸；以及第二拉伸工序，在所述交聯工序后，對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸。

技術領域

本發明涉及由聚乙烯醇系樹脂膜制造偏振膜的方法。

背景技術

偏振板被作為液晶顯示裝置等圖像顯示裝置中的偏振元件等廣泛地使用。作為偏振板，一般是在偏振膜的一面或兩面使用粘接劑等貼合透明樹脂膜(保護膜等)的構成的偏振板。

偏振膜主要是通過對包含聚乙烯醇系樹脂的原材膜實施浸漬于含有碘等二色性色素的染色浴中的處理、然后實施浸漬于含有硼酸等交聯劑的交聯浴中的處理等、并且在某個階段中對膜進行單軸拉伸而制造。作為單軸拉伸，有在空中進行拉伸的干式拉伸、和在上述染色浴及交聯浴等液體中進行拉伸的濕式拉伸。

偏振膜由于被交聯，因此當受到加熱時就容易收縮，會有耐久性不夠充分的情況。日本特開2013－148806號公報(專利文獻1)中記載，提供將硼含量設為1～3.5重量％的低含量、耐久性優異的偏振膜。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2013－148806號公報

發明內容

發明所要解決的問題

然而，在偏振膜中，如果減小硼含量，就無法獲得充分的交聯度，會有光學特性降低的情況。本發明的目的在于，提供一種制造偏振膜的方法，在偏振膜的制造方法中，盡管硼含量受到抑制，收縮力被降低，然而仍然具有高的光學特性。

用于解決問題的方法

本發明提供以下所示的偏振膜的制造方法。

〔1〕一種偏振膜的制造方法，是由聚乙烯醇系樹脂膜制造硼含有率為1.5～3.0重量％的偏振膜的方法，該方法包括：

染色工序，將聚乙烯醇系樹脂膜用二色性色素染色；

交聯工序，將染色工序后的膜用至少包含硼酸的交聯劑進行處理；

第一拉伸工序，在所述交聯工序中和/或其之前，對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸；以及

第二拉伸工序，在所述交聯工序后，對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸。

〔2〕根據〔1〕中記載的偏振膜的制造方法，其中，在所述第二拉伸工序中進行的單軸拉伸的倍率為1.04～1.2倍。

〔3〕根據〔1〕或〔2〕中記載的偏振膜的制造方法，其中，所述第二拉伸工序在絕對濕度100g/m³以上的氣氛下對所述聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸。

〔4〕根據〔1〕～〔3〕中任一項記載的偏振膜的制造方法，其中，在所述第二拉伸工序中，所述聚乙烯醇系樹脂膜被與一個或多個輥接觸，從最初與輥接觸到最后從輥脫離之間的至少70％的時間與任意輥接觸而進行單軸拉伸。

發明效果

根據本發明的制造方法，可以得到如下的偏振膜，即，是硼含量低的偏振膜，并且該偏振膜具有優異的光學特性。

附圖說明

圖1是表示本發明的偏振膜的制造方法的一個實施方式的流程圖。

具體實施方式

＜偏振膜的制造方法＞