[發(fā)明專利]具有高介電常數(shù)的可光成像薄膜在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680070640.7 | 申請(qǐng)日： | 2016-12-06 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN108369375A | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-08-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | C·沃爾福-古普塔;饒?jiān)瑯?/a>;韓淅;W·H·H·伍德沃德 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 陶氏環(huán)球技術(shù)有限責(zé)任公司;羅門(mén)哈斯電子材料韓國(guó)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/004 | 分類號(hào)： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京泛華偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280 | 代理人： | 徐舒 |
| 地址： | 美國(guó)密*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 可光成像 聚硅氧烷粘合劑 正性光致抗蝕劑 官能化氧化鋯 高介電常數(shù) 光活性物質(zhì) 納米粒子 制備 薄膜 | ||
1.一種用于制備可光成像膜的制劑；所述制劑包含：(a)包含聚硅氧烷粘合劑和光活性物質(zhì)的正性光致抗蝕劑；和(b)官能化氧化鋯納米粒子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制劑，其中所述聚硅氧烷包含C1-C4烷基和苯基中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制劑，其中所述官能化氧化鋯納米粒子的平均直徑為0.3nm到50nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制劑，其中所述官能化氧化鋯納米粒子包含具有羧酸、醇、三氯硅烷、三烷氧基硅烷或混合氯/烷氧基硅烷官能團(tuán)的配體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制劑，其中所述配體具有一到二十個(gè)非氫原子。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制劑，其中以整個(gè)制劑的固體基準(zhǔn)計(jì)算，所述制劑中的官能化納米粒子的量為50到95wt％。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制劑，其中所述聚硅氧烷的重均分子量為3,000到12,000。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于陶氏環(huán)球技術(shù)有限責(zé)任公司;羅門(mén)哈斯電子材料韓國(guó)有限公司，未經(jīng)陶氏環(huán)球技術(shù)有限責(zé)任公司;羅門(mén)哈斯電子材料韓國(guó)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680070640.7/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
