[發明專利]用于襯底制造的晶圓板和掩模裝置

有效

• 申請號: 201680070352.1
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN108290694B
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: T·布盧克;A·扎內托;T·佩德森;W·E·小倫斯塔得雷
• 申請（專利權）人: 因特瓦克公司
• 主分類號: B65G49/07
• 分類號: B65G49/07;G01B11/14;G03F9/02;H01L21/677;H01L21/68
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 蔡洪貴

1.一種用于在真空加工腔室中加工晶圓的系統，包括：

多個載體，每個所述載體包括具有多個開口的框架，每個所述開口被構造成容納一個晶圓；

多個晶圓板，每個所述晶圓板被構造成支撐一個晶圓；

傳送機構，所述傳送機構被構造成傳送所述多個晶圓板以及貫穿所述系統傳送所述多個載體；

用于將所述多個晶圓板附接至每個所述載體的附接機構，其中，每個所述晶圓板附接至相應載體的底側處的相應位置，使得被定位在每個所述晶圓板上的所述一個晶圓被定位在所述載體中的所述多個開口的其中一個開口內；

多個掩模，每個所述掩模被附接在所述載體中的所述多個開口的其中一個開口的頂側上方；

對準臺，所述對準臺被構造成將其中一個所述晶圓板支撐在所述載體的所述多個開口的其中一個開口下面，所述對準臺被構造成進行平移、轉動和升降運動；

相機，所述相機被定位成在所述晶圓板被定位在所述對準臺上時對所述多個掩模的其中一個掩模進行成像以及對被定位在其中一個所述晶圓板上的晶圓進行成像；

接收來自所述相機的圖像并向所述對準臺發送修正信號的控制器。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述多個掩模包括：

多個內掩模，每個所述內掩模被構造成安置在所述載體中的所述多個開口的其中一個開口上面，所述內掩模具有掩蔽所述晶圓的一部分并且暴露所述晶圓的其余部分的開口圖案；以及

多個外掩模，每個所述外掩模被構造成安置在相應內掩模上面，具有開口的所述外掩模被構造成部分地覆蓋所述內掩模。

3.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，每個所述晶圓板包括由鋁制成的平板。

4.根據權利要求3所述的系統，其特征在于，所述附接機構包括附接至所述多個晶圓板中的每個晶圓板的多個磁體。

5.根據權利要求4所述的系統，其特征在于，所述多個晶圓板中的每個晶圓板還包括真空孔。

6.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括被構造成將所述晶圓板傳送至所述相機的視場內的位置的輸送帶。

7.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述傳送機構包括被構造成貫穿所述系統傳送所述載體的第一線性輸送機以及被構造成在所述晶圓板從所述載體卸下時傳送所述晶圓板的第二線性輸送機。

8.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述對準臺包括座板，所述座板具有與所述晶圓板的所述真空孔對準的第一組真空孔以及被構造成遞送吸力以將所述晶圓板保持至所述座板的第二組真空孔。

9.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，還包括卸載臺，所述卸載臺包括卸載座板，所述卸載座板被構造成阻擋所述晶圓板的所述真空孔，從而阻止到所述真空孔的流體連通，所述卸載座板包括被構造成遞送吸力以將所述晶圓板保持至所述卸載座板的一組真空孔。

10.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括被構造成用于收集來自所述晶圓板的襯底碎片的容器以及襯底卸載站，所述襯底卸載站具有傾斜機構，所述傾斜機構用于使所述晶圓板在所述容器上方傾斜至豎直定向以便收集來自所述晶圓板的任何襯底碎片。