[發明專利]用于檢測輻射的裝置以及提供用于檢測輻射的裝置的方法有效
| 申請號： | 201680064870.2 | 申請日： | 2016-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN108351427B | 公開（公告）日： | 2021-07-16 |
| 發明（設計）人： | Z·萊迪沃耶維克;M·阿斯特萊;P·安德魯 | 申請（專利權）人： | 諾基亞技術有限公司 |
| 主分類號： | G01T1/20 | 分類號： | G01T1/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人： | 楊曉光 |
| 地址： | 芬蘭*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 檢測 輻射 裝置 以及 提供 方法 | ||
1.一種裝置，包括：
多個閃爍體材料層，其被配置為響應于入射的X射線輻射而產生光子；以及
多個間隔材料層，其中，閃爍體材料和間隔材料采用交替的層來布置，以使得在所述閃爍體材料層與所述間隔材料層之間提供多個界面；
其中，所述閃爍體材料具有與所述間隔材料不同的折射率，并且，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層中的層的厚度被布置為使得能夠實現由所述閃爍體材料發射的光子和由所述界面反射的光子的相長干涉。
2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述相長干涉被配置為將由所述閃爍體材料發射的光子校準成朝向垂直于所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層的方向。
3.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層被布置為形成分布式布拉格反射器。
4.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層被配置為使得由所述閃爍體材料發射的光子被布置為聚集在光電檢測器的像素上。
5.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述閃爍體材料具有比所述間隔材料更高的折射率。
6.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述間隔材料包括與所述閃爍體材料中的第一類型閃爍體不同的第二類型閃爍體。
7.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層中的層的厚度t由t＝xλ/n給出，其中，x是1/2的倍數，λ是光子的自由空間波長，n是所述層的折射率。
8.根據權利要求1所述的裝置，包括反射層。
9.根據權利要求1所述的裝置，包括光電檢測器。
10.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述閃爍體材料包括微結構晶體閃爍體。
11.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述閃爍體材料被布置成柱狀結構。
12.一種輻射檢測器，包括：
多個閃爍體材料層，其被配置為響應于入射的X射線輻射而產生光子；以及
多個間隔材料層，其中，閃爍體材料和間隔材料采用交替的層來布置，以使得在所述閃爍體材料層與所述間隔材料層之間提供多個界面；
其中，所述閃爍體材料具有與所述間隔材料不同的折射率，并且，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層中的層的厚度被布置為使得能夠實現由所述閃爍體材料發射的光子和由所述界面反射的光子的相長干涉。
13.一種方法，包括：
提供被配置為響應于入射的X射線輻射而產生光子的多個閃爍體材料層；以及
提供多個間隔材料層，其中，閃爍體材料和間隔材料采用交替的層來布置，以使得在所述閃爍體材料層與所述間隔材料層之間提供多個界面；
其中，所述閃爍體材料具有與所述間隔材料不同的折射率，并且，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層中的層的厚度被布置為使得能夠實現由所述閃爍體材料發射的光子和由所述界面反射的光子的相長干涉。
14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述相長干涉被配置為將由所述閃爍體材料發射的光子校準成朝向垂直于所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層的方向。
15.根據權利要求13所述的方法，其中，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層被布置為形成分布式布拉格反射器。
16.根據權利要求13所述的方法，其中，所述多個閃爍體材料層和所述多個間隔材料層被配置為使得由所述閃爍體材料發射的光子被布置為聚集在光電檢測器的像素上。
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