[發明專利]光學隔離模塊

在審

• 申請號: 201680064410.X
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN108351529A
• 公開（公告）日: 2018-07-31
• 發明（設計）人: 陶業爭;D·J·W·布朗;A·A·沙夫甘斯;P·P·達斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G02B27/10
• 分類號: G02B27/10;H01S3/02;H05G2/00;G02B27/40;G03F1/22
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華

用于光刻工具的光源包括：被配置為發出第一光束和第二光束的源，第一光束具有第一波長，并且第二光束具有第二波長，第一波長和第二波長不同；放大器，被配置為將第一光束和第二光束放大，以分別產生第一放大光束和第二放大光束；以及光源與放大器之間的光學隔離器，光學隔離器包括：多個二向色光學元件以及兩個二向色光學元件之間的光學調制器。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2015年10月1日提交的題為“OPTICAL ISOLATION MODULE”的美國臨時申請號62/236,056的權益以及于2015年12月15日提交的題為“OPTICAL ISOLATIONMODULE”的美國序列號14/970,402的權益，其通過引用并入本文。

技術領域

本公開涉及光學隔離模塊。光學隔離模塊能夠被用在極紫外(EUV)光源中。

背景技術

極紫外(“EUV”)光(例如，具有大約50nm或更小的波長的電磁輻射(有時也稱為軟x射線)并且包括波長約13nm的光)可以用于光刻過程以在襯底(例如，硅晶圓)中產生極小的特征。

產生EUV光的方法包括但不必限于利用處于等離子體狀態的EUV范圍中的發射譜線將具有元素(例如，氙、鋰或錫)的材料進行轉換。在通常稱為激光產生等離子體(“LPP”)的這樣的方法中，可以通過照射例如以材料的微滴、板、帶、流或集群的形式的目標材料，利用可以被稱為驅動激光器的經放大的光束來產生所需的等離子體。對于該過程，等離子體通常在密封容器(例如，真空室)中產生，并且使用各種類型的量測設備對其進行監測。

發明內容

在一個整體方面，用于光刻工具的光源包括：被配置為發出第一光束和第二光束的源，第一光束具有第一波長，并且第二光束具有第二波長，第一波長和第二波長不同；放大器，被配置為將第一光束和第二光束放大，以分別產生第一放大光束和第二放大光束；以及源和放大器之間的光學隔離器，光學隔離器包括：多個二向色光學元件以及兩個二向色光學元件之間的光學調制器。

實施方案可以包括以下特征中的一個或多個。光學調制器可以包括聲光調制器。二向色光學元件中的每一個可以被配置為反射具有第一波長的光并且透射具有第二波長的光；并且聲光調制器可以被定位在兩個二向色光學元件之間的射束路徑上，聲光調制器可以被定位為接收來自兩個二向色光學元件的反射光，聲光調制器可以被配置為當所接收到的光相對于聲光調制器在第一方向上傳播時透射所接收到的光并且當所接收到的光相對于聲光調制器在第二方向上傳播時使得所接收到的光偏離射束路徑，第二方向不同于第一方向。第一光束和第二光束可以是脈沖光束。第一放大光束的能量可以小于第二放大光束的能量。第一放大光束可以具有足以使得目標材料微滴中的目標材料變形為經修改的目標的能量，經修改的目標包括幾何分布中的目標材料，幾何分布與目標材料微滴中目標材料的分布不同，目標材料包括當處于等離子體狀態時發射極紫外(EUV)光的材料，并且第二放大光束具有足以將經修改的目標中的至少一些目標材料轉化為發射EUV光的等離子體的能量。

聲光調制器可以被定位在兩個二向色光學元件之間的射束路徑上，并且可以被定位為接收從兩個二向色光學元件反射的光，聲光調制器可以被配置為接收觸發信號，并且聲光調制器可以被配置為響應于接收到觸發信號而將從射束路徑所接收到的光偏轉，并且被配置為以其他方式將所接收到的光傳輸到射束路徑上。

光源還可以包括在源和放大器之間的第二光學調制器。第二光學調制器在兩個二向色光學元件之間，并且第二光學調制器在與光學調制器不同的射束路徑上。

源可以包括激光源。源可以包括多個源，第一光束由源中的一個源產生，并且第二光束由源中的另一個源產生。源可以包括一個或多個前置放大器。