[發明專利]適用于基站天線的天線元件

有效

• 申請號: 201680064100.8
• 申請日: 2016-10-26
• 公開（公告）號: CN108352599B
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發明（設計）人: 胡安·司伽德爾·阿爾瓦雷斯;納丁·普富爾;伯恩哈德·里斯特;布魯諾·比斯孔蒂尼;約翰·巴普蒂斯特·奧伯邁爾;蘇珊娜·施林格·季達爾;雷內·赫什曼
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: H01Q1/24
• 分類號: H01Q1/24;H01Q21/26
• 代理公司: 11329 北京龍雙利達知識產權代理有限公司
• 代理人: 王龍華;毛威

1.一種適用于基站天線的天線元件，所述天線元件包括：

支撐結構(1)，為單個部件，并且包括底部(11)、頂部(12)以及將所述底部(11)與所述頂部(12)相連的壁(13)，所述壁(13)圍繞中空區域(14)；

第一金屬鍍膜(2)，設置在所述支撐結構(1)的第一表面區域(131)上，所述第一金屬鍍膜(2)形成沿所述壁(13)從所述底部(11)至所述頂部(12)延伸的至少第一輻射元件(21)；

第二金屬鍍膜(3)，設置在所述支撐結構(1)的第二表面區域(132)上，所述第二金屬鍍膜(3)形成用于所述第一輻射元件(21)的至少第一饋電電路(31)；

其中所述支撐結構(1)的所述第一表面區域(131)和所述支撐結構(1)的所述第二表面區域(132)彼此相對設置，并且其中所述第一表面區域(131)或所述第二表面區域(132)與所述中空區域(14)相鄰；

其中，所述支撐結構(1)還包括第三表面區域(15)，所述第三表面區域(15)圍繞所述中空區域(14)，并且在所述底部(11)和所述頂部(12)之間的所述壁(13)的延伸方向的正交方向上延伸；

其中，所述第一金屬鍍膜(2)還沿所述第三表面區域(15)延伸；

其中，所述天線單元在所述支撐結構(1)上還包括電閉環(5)和非導電間隙(6)，其中：

所述電閉環(5)圍繞所述第一輻射元件(21)；以及

所述非導電間隙(6)將所述第一輻射元件(21)和所述電閉環(5)相互隔離；

其中，

所述電閉環(5)設置在所述第三表面區域(15)上；或

所述支撐結構(1)還包括第四表面區域(16)，所述第四表面區域(16)圍繞所述中空區域(14),并且在所述頂部(12)和所述底部(11)之間的壁(13)的延伸方向上從遠離所述壁(13)的所述第三表面區域(15)的邊緣延伸；其中所述電閉環(5)設置在所述第四表面區域(16)上或所述第三表面區域(15)和所述第四表面區域(16)上；以及其中所述非導電間隙(6)設置在所述第三表面區域(15)或所述第四表面區域(16)上。

2.如權利要求1中所述的天線元件，在所述第一金屬鍍膜(2)中的所述第一表面區域(131)上，還包括至少第一和第二非導電槽(41，42)，所述槽(41，42)從所述底部(11)至所述頂部(12)的方向上延伸。

3.如權利要求2中所述的天線元件，其中所述第一饋電電路(31)在所述第二表面區域(132)上包括穿過所述第一槽(41)的第一微帶線(311)和穿過所述第二槽(42)的第二微帶線(312)。

4.如權利要求2或3所述的天線元件，其中在所述第一金屬鍍膜(2)中的所述槽(41，42)之間的所述第一表面區域(131)上，所述第一金屬鍍膜(2)是連續的。

5.如權利要求2或3所述的天線元件，其中在所述第一金屬鍍膜(2)中的所述槽(41，42)之間的所述第一表面區域(131)上，還設置有非導電區域(20)。

6.如權利要求1至3中任一項所述的天線元件，其中所述第三表面區域(15)具有比所述壁(13)大的外周。

7.如權利要求1至3中任一項所述的天線元件，還包括設置在所述支撐結構(1)頂部的導向器(7)。

8.如權利要求7所述的天線元件，其中所述導向器(7)和所述支撐結構(1)形成為單個部件。

9.如權利要求1至3中任一項所述的天線元件，其中所述天線元件是模塑互連裝置MID。