[發明專利]控制閥

有效

• 申請號: 201680063429.2
• 申請日: 2016-10-25
• 公開（公告）號: CN108368942B
• 公開（公告）日: 2020-01-17
• 發明（設計）人: 安德斯·恩厄爾布雷克特松;安德斯·喬森
• 申請（專利權）人: 埃邁平衡流體技術國際有限責任公司
• 主分類號: F16K1/42
• 分類號: F16K1/42;F16K1/54;F16K3/24;F16K3/34
• 代理公司: 11262 北京安信方達知識產權代理有限公司
• 代理人: 湯慧華;楊明釗

1.一種控制閥，包括：

閥體、布置在所述閥體內的室、用于向所述室提供流體的流體入口以及用于接納來自所述室的流體的流體出口，以及用于調節從所述流體入口經由所述室到所述流體出口的流體流的關閉裝置，

所述關閉裝置具有關閉狀態、第一打開狀態和至少一個第二打開狀態，在所述關閉狀態中，不允許流體或僅允許泄漏流流過所述室，在所述第一打開狀態中，允許流體流過所述室，在所述第二打開狀態中，與當所述關閉裝置處于其第一打開狀態中時相比，允許較少的流體流流過所述室，

其中，

在所述關閉狀態和所述第二打開狀態之間，所述關閉裝置被構造為允許流體根據第一閥特性函數流過所述室，以及

在所述第二打開狀態和所述第一打開狀態之間，所述關閉裝置構造成允許流體根據與所述第一閥特性函數相比不同的第二閥特性函數流過所述室，

其中所述關閉裝置包括關閉構件和關閉構件接納機構，所述關閉構件接納機構至少具有關閉構件接納部分，

其中所述關閉構件適于移動遠離所述關閉構件接納部分，從而提供允許流體流過的流過區段，

其中，在所述關閉狀態中，所述關閉構件布置在關閉位置，在所述關閉位置中，所述關閉構件與所述關閉構件接納部分密封接觸，以便不允許流體或僅允許泄漏流流動通過所述關閉裝置，并且在所述第一打開狀態中，所述關閉構件布置在所述關閉構件遠離所述關閉構件接納部分的第一打開位置，并且在所述第二打開狀態中，所述關閉構件布置在第二打開位置中，與當所述關閉構件處于其第一打開位置時相比，在所述第二打開位置中關閉構件距離所述關閉構件接納部分更近，

其中所述關閉構件是連接到閥桿的閥塞，并且所述關閉構件接納部分是閥座，所述閥座適于在所述閥塞處于所述關閉位置中時接納所述閥塞并且與所述閥塞密封接觸，以便不允許流體或僅允許泄漏流流動通過所述關閉裝置，

其特征在于

所述室包括近側室表面和與所述近側室表面相對的遠側室表面，并且所述關閉構件接納機構還包括閥插入件，所述閥插入件至少部分地布置在所述室內，所述閥插入件包括近側部分和至少兩個遠側部分，其中所述閥塞適于被引導穿過所述閥插入件的至少一部分，以及

所述閥插入件的所述遠側部分中的至少一個相對于所述近側部分彈性地布置，以便所述遠側部分相對于彼此是可移動的。

2.根據權利要求1所述的控制閥，其中所述第一閥特性函數定義為第一函數f1(X)＝Y，并且其中所述第二閥特性函數定義為第二函數f2(X)＝Y，其中X是所述關閉構件與所述關閉構件接納部分相比較的位置，并且Y是所述流過區段的橫截面面積，并且其中對于至少大部分距離X，所述第一函數的導數df1(X)/dY與所述第二函數的導數df2(X)/dY相比是不同的。

3.根據權利要求2所述的控制閥，其中對于至少大部分距離X，所述第二函數的導數df2(X)/dY與所述第一函數的導數df1(X)/dY相比更大。

4.根據權利要求2-3中任一項所述的控制閥，其中所述第二函數是線性的。

5.根據權利要求2-3中任一項所述的控制閥，其中，所述第一函數是曲線的。

6.根據權利要求2-3中任一項所述的控制閥，其中，所述第一函數通過由EQM函數限定而是曲線的。

7.根據權利要求4所述的控制閥，其中，所述第一函數是曲線的。

8.根據權利要求4所述的控制閥，其中，所述第一函數通過由EQM函數限定而是曲線的。

9.根據權利要求1-3和7-8中任一項所述的控制閥，其中，所述閥塞布置成在所述室的至少一部分內被引導，并且其中所述閥塞包括控制部分，所述控制部分被布置為控制經過所述流過區段的流體流。

10.根據權利要求4所述的控制閥，其中，所述閥塞布置成在所述室的至少一部分內被引導，并且其中所述閥塞包括控制部分，所述控制部分被布置為控制經過所述流過區段的流體流。