[發(fā)明專利]感光性圖案形成用材料

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680062820.0
• 申請日: 2016-11-16
• 公開（公告）號: CN108350353B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發(fā)明（設計）人: 宮松隆;保田慶友;神井英行
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: C09K11/08
• 分類號: C09K11/08;B82Y40/00;C09K11/56;C09K11/70
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權代理有限公司 11205
• 代理人: 李艷;臧建明

1.一種感光性圖案形成用材料，包括納米粒子集合體，且所述感光性圖案形成用材料的特征在于，

所述納米粒子集合體具有核殼納米結晶與第1配體，

所述核殼納米結晶具有：包含含有第13族元素及第15族元素的半導體物質(zhì)的核、以及被覆所述核的至少一部分且包含含有第12族元素及第16族元素的化合物的一種或多種殼，

所述第1配體被覆所述核殼納米結晶的至少一部分，

所述納米粒子集合體在1,2-丙二醇-1-甲醚-2-乙酸酯、1,3-丁二醇-1-乙酸酯-3-甲醚、1,2-丙二醇-1-乙醚及環(huán)己酮中的一種溶媒中，當利用半值寬為45nm的456.2nm的波長的光激發(fā)時，產(chǎn)生熒光量子產(chǎn)率為70％以上且熒光半值寬為45nm以下的510nm以上且650nm以下的波長的熒光，

所述第1配體源自下述式(1)所表示的化合物，

通過穿透式電子顯微鏡測定而得的所述核的縱橫比未滿1.15；

式(1)中，X為配位于第12族元素的原子的官能基，且為具有羧基、膦酰基、氨基、酰胺基、脲基或這些的組合的基；m為1～5的整數(shù)；在m為2以上的情況下，多個X可相同也可不同；Y為包含雜原子的碳數(shù)1～20的一價有機基，且為-COO-R^Y或-OCO-R^Y所表示的基，R^Y為烴基或者經(jīng)包含氧原子的基取代而成的烴基；Z為具有直鏈結構的碳數(shù)1～20的m+1價的有機基。

2.根據(jù)權利要求1所述的感光性圖案形成用材料，進而包括粘合劑樹脂、溶媒、光聚合引發(fā)劑及聚合性不飽和化合物。

3.根據(jù)權利要求1所述的感光性圖案形成用材料，其中所述殼具有通過對所述核的表面處理而形成的部分，

所述殼整體的平均厚度為0.5nm以上且5nm以下。

4.根據(jù)權利要求1、2或3所述的感光性圖案形成用材料，其中所述式(1)中，

X為羧基、氨基、酰胺基、脲基、下述式(a)所表示的基或下述式(b)所表示的基，

m為1，

Z為下述式(z)所表示的基；

式(a)及式(b)中，*表示與Z的鍵結部位；

*₁-(R¹)_n1-(S)_n2-R²-*₂···(z)

式(z)中，R¹為碳數(shù)1～4的直鏈狀烷二基或者具有羥基或氧代基的碳數(shù)1～4的直鏈狀烷二基；R²為碳數(shù)1～4的直鏈狀烷二基；n1及n2分別獨立地為0或1；*₁表示與X的鍵結部位；*₂表示與Y的鍵結部位。

5.根據(jù)權利要求1、2或3所述的感光性圖案形成用材料，其中所述式(1)中，

X為羧基、膦酰基、氨基、酰胺基、脲基、下述式(a)所表示的基或下述式(b)所表示的基，

m為1，

Z為下述式(z)所表示的基；

式(a)及式(b)中，*表示與Z的鍵結部位；

*₁-(R¹)_n1-(S)_n2-R²-*₂···(z)

式(z)中，R¹為碳數(shù)1～4的直鏈狀烷二基或者具有羥基或氧代基的碳數(shù)1～4的直鏈狀烷二基；R²為碳數(shù)1～4的直鏈狀烷二基；n1為0或1；n2為1；*₁表示與X的鍵結部位；*₂表示與Y的鍵結部位。