[發明專利]鍍覆或涂覆方法

有效

• 申請號: 201680062340.4
• 申請日: 2016-08-30
• 公開（公告）號: CN108350591B
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 鄭思琳;王宇鑫;魏尚海;W·陳;高唯
• 申請（專利權）人: 席勒斯材料科學有限公司
• 主分類號: C25D3/56
• 分類號: C25D3/56;C25D21/02;C25D21/10;C25D5/12
• 代理公司: 北京世峰知識產權代理有限公司 11713
• 代理人: 王思琪;王建秀

1.一種用含有兩種金屬的金屬基體涂層鍍覆基底的方法，所述方法包括：提供包含所述兩種金屬的離子的鍍液，其中所述兩種金屬的第一金屬的第一濃度和所述兩種金屬的第二金屬的第二濃度不同，其中所述鍍液中的所述第二金屬的離子與所述鍍液中的所述第一金屬的離子相比的百分比小于1%，并且，其中所述第一金屬包含過渡金屬和所述第二金屬包含后過渡金屬或類金屬；將所述鍍液加熱至預定溫度；

將作為陰極的所述基底和陽極插入所述鍍液中；

攪拌所述鍍液；和

通過耦合到所述陰極和所述陽極的恒定電流電源向所述鍍液施加恒定電流持續預定時間量以在所述基底上形成金屬基體涂層，其中所述金屬基體涂層包含所述第一金屬和所述第二金屬的金屬間化合物的納米顆粒或所述第一金屬和所述第二金屬的合金的納米顆粒。

2.根據權利要求1所述的方法，其中當所述納米顆粒是所述第一金屬和所述第二金屬的金屬間化合物時，所述兩種金屬不溶于固相并且不形成合金。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述第一金屬的第一濃度包括250克/升(g/L)的質量濃度和所述第二金屬的第二濃度包括5毫升/升鍍液(mL/L)至400 ml/L的體積濃度。

4.根據權利要求1所述的方法，其中當所述納米顆粒是所述第一金屬和所述第二金屬的合金時，所述兩種金屬具有允許所述兩種金屬可溶于固相并形成合金的性質。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述第一金屬的第一濃度包括30克/升(g/L)的質量濃度，和所述第二金屬的第二濃度包括0.5毫升/升鍍液(mL/L)至40 ml/L的體積濃度。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一金屬包含鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)、銅(Cu)或銀(Ag)中的至少一種。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述第一金屬包含鎳，并且所述鍍液包含標準Watts Ni浴。

8.根據權利要求6所述的方法，其中所述第一金屬包含銀，并且所述鍍液包含氰化銀(AgCN)、氰化鉀(KCN)和氫氧化鉀(KOH)的浴。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述第二金屬包含鉍(Bi)、砷(As)或錫(Sn)中的至少一種。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述預定溫度包括20攝氏度至45攝氏度。

11.根據權利要求1所述的方法，其中所述攪拌通過磁力攪拌器以50轉/分鐘(rpm)至1500 rpm運轉進行。

12.根據權利要求1所述的方法，其中所述恒定電流包括直流或脈沖電流中的至少一種。

13.根據權利要求1所述的方法，其中所述恒定電流的量取決于所述兩種金屬的相對離子電荷。

14.根據權利要求13所述的方法，其中所述恒定電流的量包括10毫安/平方厘米(mA/cm²)至80 mA/cm²。

15.根據權利要求13所述的方法，其中所述恒定電流的量包括20毫安/平方厘米(mA/cm²)至80 mA/cm²。

16.根據權利要求1所述的方法，其中所述基底包括金屬。