[發明專利]用于容納金屬鹵化物的內部涂覆的容器

在審

• 申請號: 201680060345.3
• 申請日: 2016-10-27
• 公開（公告）號: CN108349627A
• 公開（公告）日: 2018-07-31
• 發明（設計）人: 讓-馬克·吉拉爾;格倫·庫肯貝塞爾;尼古拉斯·布拉斯科;文森特·歐馬杰;文卡特斯瓦拉·帕倫姆
• 申請（專利權）人: 喬治洛德方法研究和開發液化空氣有限公司
• 主分類號: B65D25/14
• 分類號: B65D25/14;B65D85/00;C23C16/455;C23C16/06
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 吳鵬;馬江立

1.一種用于容置、儲存、運輸或輸送金屬鹵化物組合物的容器，該容器包括一個或多個內部流體可潤濕表面，所述表面包括沉積在其上的一個或多個阻隔層，其中所述層中的每一個可以是相同的或不同的。

2.根據權利要求1所述的容器，其中所述容器是升華器。

3.根據權利要求1所述的容器，其中所述一個或多個阻隔層中的每一個獨立地選自下組，該組由以下各項組成：金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氧氮化物、金屬碳氮化物、金屬氧碳氮化物及其組合。

4.根據權利要求3所述的容器，其中所述一個或多個阻隔層中的金屬與所述金屬鹵化物組合物的金屬相同。

5.根據權利要求3所述的容器，其中所述金屬是Ti、B、Si、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Mo、Cr、W、Al或Ga。

6.根據權利要求1所述的容器，其中所述一個或多個阻隔層中的每一個的厚度為5至1000nm。

7.根據權利要求2所述的容器，其中所述升華器包括閥。

8.根據權利要求7所述的容器，其中所述閥未涂覆有阻隔層。

9.根據權利要求1所述的容器，其中該金屬鹵化物是WCl₄、WCl₅、WCl₆、WBr₅、WBr₆、WI₅、WI₆、WOCl₄、MoCl₅、MoOCl₄、MoO₂Cl₂、NbCl₅、NbF₅、NbI₅、NbOCl₃、NbOF₃、NbOI₃、HfCl₄、HfF₄、HfI₄、HfBr₄、HfOCl₂、HfOF₂、HfOI₂、HfOBr₂、ZrCl₄、ZrF₄、ZrI₄、ZrBr₄、ZrOCl₂、ZrOI₂、ZrOF₂、ZrOBr₂、TiCl₄、TiF₄、TiI₄、TiOCl₂、TiOF₂、VCl₄、VF₅、VI₃、VI₄、VOCl₃、VOF₃、TaF₅、TaCl₅、TaI₅、TaOCl₃、TaOF₃、TaOI₃、SiBr₄、SiH₂I₂、或AlCl₃。

10.根據權利要求1所述的容器，還包括可移除或固定的次要特征，該次要特征包括沉積在其上的所述阻隔層中的一個或多個。

11.根據權利要求10所述的容器，其中所述次要特征選自下組，該組由以下各項組成：托盤、分布板、鼓泡器、珠粒、熱傳導增強特征、回旋狀的流動路徑和用于在線計量的光學窗口或其組合。