[發(fā)明專利]確定能量射束在限定的面上的擊中點的改變的位置的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680060297.8
• 申請日: 2016-10-13
• 公開（公告）號: CN108140526B
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: G.賴特;M.韋爾茨萊因
• 申請（專利權(quán)）人: ALD真空技術(shù)有限責(zé)任公司
• 主分類號: H01J37/305
• 分類號: H01J37/305
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 臧永杰;劉春元

1.用于確定連續(xù)的或者脈沖的能量射束在限定的面上的擊中點的改變的位置的方法，所述能量射束由偏轉(zhuǎn)裝置周期性地在所述面上移動，所述方法具有以下步驟：

用攝像機(jī)來檢測所述面，所述攝像機(jī)具有多個在圖像平面中的能夠單個評估的像點，其中給所述面的每個點分配圖像點，

借助圖像分析裝置來評估由攝像機(jī)所檢測的圖像值，

其特征在于，

所述圖像分析裝置為了其中至少一些像點確定圖像值的時間序列，

進(jìn)行所述圖像點的圖像值的時間序列的信號分析，

進(jìn)行所述信號分析的結(jié)果與由所述偏轉(zhuǎn)裝置所引起的周期性和/或射束脈沖的周期性的相關(guān)性分析，

并且基于相關(guān)性的性質(zhì)來確定，所述面的被分配給相應(yīng)的所述圖像點的點在確定的時間點是否已經(jīng)被所述能量射束擊中。

2.按照權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，由偏轉(zhuǎn)裝置將所述射束以利用基頻來周期性重復(fù)的樣式在所述面上移動，其中，進(jìn)行所述信號分析的所述結(jié)果與由所述基頻引起的周期性的相關(guān)性分析。

3.按照權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述射束由偏轉(zhuǎn)裝置針對兩個面方向其中的每個面方向以分別特定的頻譜來偏轉(zhuǎn)，其中進(jìn)行所述信號分析的所述結(jié)果與所述特定的頻譜的相關(guān)性分析。

4.按照權(quán)利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，所述能量射束是電子射束。

5.按照權(quán)利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，所述面是熔體的或待熔化的材料的表面。

6.按照權(quán)利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，所述圖像值再現(xiàn)由所述擊中點發(fā)出的電磁輻射的強(qiáng)度或由所述擊中點發(fā)出的微粒射束的強(qiáng)度。

7.按照權(quán)利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，將從比較中獲得的關(guān)于能量射束在所述面上的路徑的信息作為調(diào)節(jié)參量饋入所述偏轉(zhuǎn)裝置的控制器中。

8.用于執(zhí)行按照權(quán)利要求1-7之一所述的方法的設(shè)備，所述設(shè)備具有用于容納熔體的坩堝、對準(zhǔn)到所述坩堝上的電子射束槍、能夠借助控制裝置控制的偏轉(zhuǎn)裝置、對準(zhǔn)到所述坩堝中的攝像機(jī)并且具有圖像分析裝置，其中所述偏轉(zhuǎn)裝置使電子的電子射束周期性地在處于所述坩堝中的熔體的表面上移動，并且所述攝像機(jī)具有多個在圖像平面中的能夠單個評估的圖像點，其中給所述表面的每個點分配圖像點，其特征在于，所述圖像分析裝置這樣被設(shè)立，使得將射束偏轉(zhuǎn)和/或射束脈沖的周期性被考慮用于圖像分析，以便在所述圖像中標(biāo)識所述射束在所述表面中的擊中點。

9.按照權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其特征在于，所述圖像分析裝置被這樣設(shè)立，使得所述圖像分析裝置能夠?qū)⑿Ｕ递敵龅狡D(zhuǎn)裝置的控制器。