[發(fā)明專利]用于制造三維物品的方法和裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680060145.8
• 申請日: 2016-09-21
• 公開（公告）號: CN108136671B
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: K.卡爾松
• 申請（專利權(quán)）人: 阿卡姆股份公司
• 主分類號: B29C64/153
• 分類號: B29C64/153;B29C64/205;B29C64/386;B22F3/00;B22F3/105;B33Y30/00;B33Y50/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 姜凝;安文森

1. 一種樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125），其用于從裝置（100）的基底表面（130）帶動一部分粉末，以便使用能夠通過用能量束照射其來使其固化的粉末材料逐層制造三維物品，并且?guī)У椒峙錁?gòu)件（185）和所述裝置的工作區(qū)域（190）之間的位置，所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）包括：

第一部分（170），和

接觸構(gòu)件（154），

其中，

所述接觸構(gòu)件（154）配置成當所述分配構(gòu)件（185）被至少部分地定位在所述基底表面（130）上方時操作性地接合所述分配構(gòu)件（185）的夾持臂（150），且

使所述第一部分（170）經(jīng)由所述夾持臂（150）和所述接觸構(gòu)件（154）的接合沿與所述分配構(gòu)件（185）的行進方向相對的第一方向運動，使得所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）的第一部分（170）在所述分配構(gòu)件（185）下方經(jīng)過。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）由控制單元控制和被電氣地致動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，在所述基底表面（130）上方設(shè)置用于所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）的樞轉(zhuǎn)軸（140）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置（1），其特征在于，所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）在其樞轉(zhuǎn)沖程的一部分期間中斷從所述粉末存儲單元（110）到所述基底表面（130）上的粉末流動。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置（1），其特征在于，所述粉末供應(yīng)基底表面（130）具有彎曲形狀。

6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置（1），其特征在于：

所述分配構(gòu)件（185）能夠以平移方式運動，以及

所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）的第一部分（170）能夠以彎曲軌跡運動。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置（1），其特征在于，僅當所述分配構(gòu)件（185）定位在所述基底表面（130）上時發(fā)生所述接觸構(gòu)件（154）和所述夾持臂（150）之間的接觸。

8.用于使用能夠通過用諸如電磁輻射或電子束的能量束照射其來使其固化的粉末材料逐層制造三維物品的裝置（100），所述裝置（100）包括：

樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125），其用于將一部分粉末從所述裝置的基底表面（130）帶到所述裝置的分配構(gòu)件（185）和所述裝置的工作區(qū)域（190）之間的位置處，

其中：

所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）包括第一部分（170）和接觸構(gòu)件（154），

所述接觸構(gòu)件（154）配置成當所述分配構(gòu)件（185）被至少部分地定位在所述基底表面（130）上方時操作性地接合所述分配構(gòu)件（185）的夾持臂（150），且

使所述第一部分（170）經(jīng)由所述夾持臂（150）和所述接觸構(gòu)件（154）的接合沿與所述分配構(gòu)件（185）的行進方向相對的第一方向運動，使得所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）的第一部分（170）在所述分配構(gòu)件（185）下方經(jīng)過。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）由控制單元控制和被電氣地致動。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，在所述基底表面（130）上方設(shè)置用于所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）的樞轉(zhuǎn)軸（140）。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述樞轉(zhuǎn)粉末推動設(shè)備（125）在其樞轉(zhuǎn)沖程的一部分期間中斷從所述粉末存儲單元（110）到所述基底表面（130）上的粉末流動。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述粉末供應(yīng)基底表面（130）具有彎曲形狀。