[發(fā)明專利]相位差膜及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680058906.6
• 申請日: 2016-10-13
• 公開（公告）號: CN108139529B
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發(fā)明（設計）人: 村上俊秀
• 申請（專利權）人: 日本瑞翁株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;B42D25/328;B42D25/364;G02B5/18;G02B5/32
• 代理公司: 北京柏杉松知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 趙曦;劉繼富

1.一種相位差膜，由包含具有結(jié)晶性的晶化度為15％以上的聚合物的樹脂形成，NZ系數(shù)小于1，所述聚合物為含有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)的聚合物，

所述NZ系數(shù)為Nz＝(nx-nz)/(nx-ny)所表示的值，nx表示與所述相位差膜的厚度方向垂直的方向即面內(nèi)方向上的、賦予最大折射率的方向的折射率，ny表示所述相位差膜的所述面內(nèi)方向上的、與nx的方向垂直的方向的折射率，nz表示所述相位差膜的厚度方向的折射率。

2.根據(jù)權利要求1所述的相位差膜，其中，NZ系數(shù)為0.7以下。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的相位差膜，其中，所述含有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)的聚合物為二環(huán)戊二烯開環(huán)聚合物加氫物。

4.根據(jù)權利要求1或2所述的相位差膜，其中，面內(nèi)方向的延遲量Re、厚度方向的延遲量Rth及厚度d滿足Re≤10nm、Rth/d≤-5×10^-3的關系。

5.一種制造方法，為權利要求1～4中任1項所述的相位差膜的制造方法，包含以下工序：

(1)貼合工序，其為在第1膜的一面或兩面貼合第2膜而得到第3膜的工序，所述第1膜由包含具有結(jié)晶性的聚合物、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為Tg、熔點為Tm的樹脂形成，所述第2膜的(Tg+30)℃時的長度方向和寬度方向中的至少一個方向的收縮率為5％以上且50％以下，所述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度和所述熔點的單位為℃；

(2)收縮工序，將所述第3膜加熱到Tg℃以上且(Tg+30)℃以下，使其沿著至少一個方向收縮，使其面積收縮5％以上且50％以下，得到第4膜；以及

(3)二次加熱工序，將所述第4膜加熱到(Tg+50)℃以上且(Tm-40)℃以下。